一、需求背景介紹：

在光電技術(shù)研究和生產(chǎn)中,，涉及頻繁的流體流量控制和計(jì)量工作,，對(duì)準(zhǔn)確度和可靠性有較高要求,。在測(cè)控測(cè)量?jī)x器選擇上,，光電企業(yè)或?qū)嶒?yàn)室會(huì)根據(jù)工況和需求,，提出更嚴(yán)謹(jǐn)和專業(yè)的品控要求,。

近期，我們接到國(guó)內(nèi)某光電研究所的需求,，需要定制雙閥壓力控制器,。該研究所屬重點(diǎn)研究所，規(guī)模較大,，研究方向和領(lǐng)域廣泛,，在國(guó)內(nèi)光電研究上取得較高的成就，在光電研發(fā)和應(yīng)用方面具有重要的地位和影響力,。

二,、實(shí)際工況需求：

在光電相關(guān)作業(yè)中，涉及的目標(biāo)腔體由吸盤和光學(xué)元件組成,。操作者向光學(xué)元件內(nèi)注入氣體氣壓,，通過氣壓來影響光學(xué)元件形變。因光學(xué)元件薄壁厚度較薄,，加之工況需求調(diào)整,，研究所對(duì)氣壓的控制響應(yīng)時(shí)間，即穩(wěn)壓時(shí)間提出了較高要求,。

既有的工況中,，氣源經(jīng)過壓力控制器，直接進(jìn)入目標(biāo)腔體,，穩(wěn)壓時(shí)間（氣控時(shí)間）相對(duì)較長(zhǎng),。

                                        圖：某光電研究所既有工況

該光電研究所提出以下需求：

1.縮短氣控時(shí)間，提高氣控精度,；

2.在氣壓控制上,，氣壓范圍要符合工況要求；

3.各項(xiàng)精度符合工況,，精確控制薄壁形變,；

4.可以提供及時(shí)到位的售后咨詢和服務(wù)。

三,、解決方案：

基于該光電研究所提供的工況及細(xì)節(jié),，精量科技的技術(shù)負(fù)責(zé)人提供一套定制化的解決方案：

從氣源到目標(biāo)控壓腔體之間，除了雙閥壓力控制器外,，分別增加一個(gè)2L的氣罐和一個(gè)電磁閥,。

                                           圖：精量科技解決方案流程

具體過程和效果如下：

在初始狀態(tài)下，電磁閥處于關(guān)閉狀態(tài),。

先通過精量科技ACU20PCD雙閥壓力控制器,，給下游的氣罐充氣至6KPa左右，等待預(yù)制大腔體壓力穩(wěn)定后,，再將電磁閥打開，給目標(biāo)控壓腔體充氣。同時(shí),，雙閥控制器將壓力控制設(shè)定為5KPa,，成功實(shí)現(xiàn)100ms內(nèi)將腔體壓力控制為5KPa。

                     圖：為某光電研究所提供的解決方案中使用的定制化雙閥壓力控制器

通過該方案,，光電研究所利用我司的定制化解決方案,，實(shí)現(xiàn)了最初的預(yù)想：

該光電研究所根據(jù)解決方案,，先后分批次采購(gòu)對(duì)應(yīng)的定制化雙閥壓力控制器,，用于光電項(xiàng)目生產(chǎn)作業(yè)中。

如需溝通壓力控制方案,，請(qǐng)與頁(yè)面的產(chǎn)品經(jīng)理聯(lián)系,。