EBAC/RCI 原理和應用-Kleindiek EBIC放大器

來源：上海溪拓科學儀器有限公司 2024年11月15日 17:01

EBAC（Electron Beam Absorbed Current）

RCI（Resistive Contrast Imaging）

芯片工藝進入 55 納米/65 納米技術節(jié)點后,，EBAC 技術被引入并得到迅速發(fā)展?，F如今,，EBAC、RCI已成為芯片失效分析（failure analysis, FA）的主要工具之一，用于IC線路的短路，斷路，高阻缺陷的隔離和精確定位,。

原理：

為了探測芯片的特定電路區(qū)域，EBAC 系統(tǒng)配備了納米探針和掃描電子顯微鏡 (SEM),。當電子束（primary electron beam）穿透樣品表面時,，電子流可通過金屬探針所吸收，經放大器放大,，并通過SEM形成 EBAC 圖像,。

電子流的穿透深度取決于掃描電鏡的加速電壓（acceleration voltage）和樣品的材料特性。電子束吸收電流流入金屬/通孔（Metal/Via）結構,，然后由探頭測量,。如果金屬/通孔鏈斷裂或打開，則可通過疊加在SEM圖像上的EBAC圖像的突然變化來精確定位定位,。

對于某些高電阻結構（部分于通孔連接）,，單個探針無法定位此類缺陷。因此,，在 EBAC 技術中需要兩個探頭,，即電阻對比成像（Resistive contrast imaging，RCI）,。

結果：

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