?PIV粒子圖像測速系統(tǒng)的操作流程主要包括以下幾個步驟?:
1?.施放示蹤粒子?:在待測流體中加入示蹤粒子,這些粒子具有良好的跟蹤性和反光性,,以便于觀察和測量,。
2?.激光照明?:使用激光器產(chǎn)生一片厚度約為1mm的激光片光,照亮待測平面,。
3?.相機拍攝?:利用高速相機在一定的時間間隔(Dt)內(nèi)拍攝散射光斑,,形成兩張粒子圖像。
4.?圖像處理?:將拍攝到的兩張粒子圖像劃分為若干矩形區(qū)域(判讀窗口),,通過比較兩張圖片中對應判讀窗口內(nèi)的粒子圖像,,可以計算出示蹤粒子在Dt間隔內(nèi)的位移Dx,進而得到各窗口對應流體微團的流速矢量,。
5?.標定步驟?:在實驗前,,需要進行標定以確保測量的準確性。這包括使用三維標定靶進行標定,,通過調(diào)整相機和激光器的位置,,確保標定靶在兩個相機拍攝區(qū)域的中間位置,,并調(diào)整激光強度和片光平面位置。
6?.數(shù)據(jù)分析?:使用專門的數(shù)據(jù)分析軟件對采集到的圖像數(shù)據(jù)進行分析處理,,得到流場的二維速度分布,。
此外,還有一些注意事項和操作細節(jié)需要注意,,例如:
在操作過程中要遵守安全規(guī)定,,特別是在激光開啟時,人眼不能直接觀看激光源,。
相機和激光器等設(shè)備需要正確連接并定期檢查,,確保其性能和安全性。
實驗完成后,,應將設(shè)備電源斷開,,以避免設(shè)備長時間通電造成損壞。
通過上述步驟,,PIV系統(tǒng)能夠提供高精度和高頻率的流場速度測量,,廣泛應用于流體動力學研究、工業(yè)應用等領(lǐng)域?,。
杭州嘉維創(chuàng)新科技有限公司是多家先進儀器制造商的合作伙伴,。代理銷售京都電子KEM、紡吉萊博Fungilab,、格哈特Gerhardt,、東京理化EYELA、威伊WELCH,、日立,、isco、CEM,、biotek,、布魯克海文Brookhaven、布勞恩MBRAUN,、雅馬拓yamato,、賽默飛世爾Thermo等公司的全自動電位滴定儀、旋轉(zhuǎn)粘度計,、定氮儀,、脂肪儀、纖維素測定儀,、溶劑純化系統(tǒng),、手套箱、平行蒸發(fā)儀、真空濃縮儀,、微通道反應器,、微波合成儀、流動反應器,、平行合成儀,、反應量熱儀、低溫反應器,、低溫冷卻液循環(huán)泵,、冷水機、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀,、分子蒸餾儀,、冷凍干燥機、噴霧干燥機,、快速制備色譜儀,、質(zhì)構(gòu)儀、粒度儀,、酶標儀、真空泵等設(shè)備,,并提供技術(shù)售后服務(wù),。
相關(guān)產(chǎn)品
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載,、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,,應在授權(quán)范圍內(nèi)使用,,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責任,。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,,不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體,、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責任,。
- 如涉及作品內(nèi)容,、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利,。