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常壓等離子體設(shè)備主要有三類：電暈放電等離子體設(shè)備、微波等離子體設(shè)備,、多瓦等離子體設(shè)備,。
1,、電暈放電等離子裝置
電暈放電等離子體裝置是一種基于使用高頻電源產(chǎn)生等離子體的裝置。通過在電極之間施加高頻電壓來釋放等離子體,，并通過與反應(yīng)氣體的化學(xué)反應(yīng)來對(duì)表面進(jìn)行改性和清潔,。一般來說，它的特點(diǎn)是溫度低,，對(duì)樹脂和薄膜等聚合物材料有效,。
2,、微波等離子體裝置
微波等離子體裝置是利用微波產(chǎn)生等離子體的裝置。通過注入反應(yīng)氣體并施加高頻電場(chǎng),，反應(yīng)氣體吸收微波并產(chǎn)生等離子體,。它可以產(chǎn)生高溫等離子體，用于金屬,、陶瓷等的高分辨率表面改性和薄膜形成,。
3.Dova等離子裝置
Dova Plasma 裝置是一種帶有水平排列的針和板作為電極的裝置。板上有反應(yīng)氣體流過的小孔,。通過在針和板之間施加高電壓,，針尖處會(huì)產(chǎn)生電暈放電，從而產(chǎn)生等離子體,。它可以產(chǎn)生低溫等離子體,，可應(yīng)用于細(xì)胞和生物組織的處理。
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