硅片擴散超聲波清洗機的擴散方式

來源：山東濟寧魯超超聲設備有限公司 2024年05月31日 23:29

硅片擴散超聲波清洗機的擴散方式主要圍繞其清洗過程進行,。

清洗原理：

利用超聲波的振動能量和清洗劑的作用，高效地去除硅片表面的污垢,、油脂,、氧化物等雜質,。

超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高頻振動，通過清洗槽傳遞到清洗液中,，形成“空化效應”,，將硅片表面的污垢擊碎并分散到清洗液中。

清洗流程：

將待清洗的硅片放入清洗機中,。

加入適量的清洗液,，如去離子水、有機堿,、Q325-B清洗劑,、活性劑等。

啟動超聲波發(fā)生器,，使清洗液產(chǎn)生振動,。

清洗過程中，清洗液中的微小氣泡會附著在硅片表面,，并隨著超聲波的振動而產(chǎn)生沖擊力,，幫助剝離硅片表面的污垢和雜質,。

經(jīng)過一定時間的清洗后，硅片表面的污垢和雜質會被剝離并分散在清洗液中,。

通過清洗液的循環(huán)流動,，將剝離的污垢和雜質排出清洗機。

取出清洗完成的硅片,，完成整個清洗過程,。

清洗方式選擇：

硅片擴散超聲波清洗機提供了多種清洗方式，包括但不限于純水清洗,、膽堿清洗,、冷熱純水沖洗、酸洗（如HF酸洗）等,。這些清洗方式可以根據(jù)硅片表面的污垢種類和清洗要求進行選擇,。

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