選擇合適類型的X射線源是實(shí)現(xiàn)優(yōu)質(zhì)成像和拓寬應(yīng)用范圍的關(guān)鍵,。 在上一期的推文中，我們介紹了射線源「開管和閉管」的結(jié)構(gòu)區(qū)別,，本期我們繼續(xù)為大家介紹「反射靶和透射靶」兩種射線源結(jié)構(gòu)。

反射式靶

反射式靶的特點(diǎn)在于其靶面與入射電子束形成一定傾斜角度,。這種設(shè)計(jì)具有較大的散熱體積,，因此可以承受較高電壓的加速電子。反射式靶的優(yōu)勢(shì)在于能夠獲得更高的電子能量,，從而產(chǎn)生更強(qiáng)的X射線輻射,。這對(duì)于需要高能量成像的應(yīng)用場(chǎng)景非常重要,，例如：

· 汽車工業(yè)：檢測(cè)電子組件、電子控制單元,、微型機(jī)械裝置,、插頭和壓接件、電池盒等,。

· 航空航天領(lǐng)域：檢測(cè)機(jī)械組件（如閥或襟翼制動(dòng)器）,、環(huán)向電子束焊（EB）焊縫、轉(zhuǎn)子葉片,、渦輪葉片,、飛機(jī)渦輪、電子組裝,、小型鈦和鋁鑄件,、復(fù)合材料等。

圖源網(wǎng)絡(luò)

透射式靶

透射式靶是一層薄膜,，其靶面與入射電子束垂直,。這種設(shè)計(jì)可以獲得更小的焦點(diǎn)尺寸和更大的輻射角度。透射式靶適用于需要高分辨率成像的場(chǎng)景,，例如：

· 材料科學(xué)中的微焦點(diǎn)X射線成像：透射式靶可用于研究材料的微觀結(jié)構(gòu)和缺陷,。

圖源網(wǎng)絡(luò)

無論是「開管和閉管」，還是「反射靶和透射靶」,，不同的結(jié)構(gòu)組合,，其成像質(zhì)量、應(yīng)用場(chǎng)景等各有不同,，我們建議用戶在選擇設(shè)備時(shí),，一定要結(jié)合自身實(shí)際，充分考慮好檢測(cè)需求,，再選擇最合適的射線源,。只有根據(jù)實(shí)際情況做出明智的選擇，才能充分發(fā)揮X射線成像技術(shù)的潛力,，為各領(lǐng)域的檢測(cè)和研究提供精準(zhǔn),、高效的解決方案。