氨逃逸是指在脫硝反應(yīng)塔出口煙氣中存在未參與反應(yīng)的氨的現(xiàn)象,。氨逃逸會對環(huán)境質(zhì)量,、人類身體健康等方面造成重要影響。

氨逃逸的危害主要包括:

1.       資金浪費與環(huán)境污染:逃逸的氨氣不僅造成了資源的浪費,，還可能對環(huán)境造成污染。

2.       腐蝕催化劑模塊:氨逃逸會腐蝕催化劑模塊,，導(dǎo)致催化劑失活(即失效)和堵塞,，從而大大縮短催化劑的使用壽命

3.       設(shè)備腐蝕與堵塞:逃逸的氨氣與空氣中的SO3反應(yīng)，生成具有腐蝕性和粘結(jié)性的硫酸氨鹽,，這會堵塞并腐蝕位于脫硝下游的設(shè)備如空氣預(yù)熱器蓄熱原件,。此外，過量的逃逸氨還可能腐蝕脫硫系統(tǒng)中的管道,、泵,、閥和預(yù)熱器等設(shè)備。

4.       影響產(chǎn)品質(zhì)量:過量的逃逸氨會被飛灰吸收,，導(dǎo)致加氣塊(灰磚)的質(zhì)量下降,，甚至無法銷售。

綜上所述,，氨逃逸不僅對環(huán)境產(chǎn)生負(fù)面影響,，還可能導(dǎo)致設(shè)備損壞、催化劑失活以及產(chǎn)品質(zhì)量下降,。因此,，對氨逃逸的監(jiān)測和控制至關(guān)重要。

氨逃逸設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖

針對環(huán)境監(jiān)測要求及市場需求,，智易時代自主研發(fā)氨逃逸在線分析系統(tǒng),，設(shè)備系統(tǒng)包含預(yù)處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分,，取樣方式為在位式高溫伴熱抽取,，基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)，應(yīng)用于氨法脫硝領(lǐng)域過程中逃逸NH3的監(jiān)測分析,，為各個行業(yè)脫硝工藝過程控制提供了有效依據(jù),。

設(shè)備采用抽取旁路測量方式，現(xiàn)場取樣點選擇和安裝更靈活，鏡片光學(xué)與樣氣非接觸測量,，不宜被腐蝕,。同時系統(tǒng)整體抗機(jī)械振動能力強，測量不受溫度和壓力等過程參數(shù)影響,，因此產(chǎn)品具有測量精度高,、抗干擾能力強、維護(hù)簡單等諸多優(yōu)勢,，可滿足實際工藝中的氨逃逸監(jiān)測需求,。

目前智易時代已經(jīng)取得了氨逃逸在線分析系統(tǒng)CCEP證書及檢測報告。