前言

自1947年第一塊晶體管誕生,，人類從此步入了飛速發(fā)展的電子時代,。經(jīng)歷70多年的發(fā)展，半導體技術不僅在先進科研領域,，也早已與人們的日常生活密不可分,，如半導體芯片、智能汽車,、智慧電網(wǎng),、5G通信、航空航天,、國防,、醫(yī)療衛(wèi)生等等。

1 挑戰(zhàn)

半導體中雜質(zhì)的存在使嚴格按周期性排列的原子所產(chǎn)生的周期性勢場受到破壞,，這對半導體材料的性質(zhì)產(chǎn)生決定性的影響,。因此，痕量水平半導體行業(yè)無機雜質(zhì)和有機污染物的檢測是操作過程中的一項重大挑戰(zhàn),。

什么是有機雜質(zhì)? 有機雜質(zhì)，也被稱為有機污染物,，其存在可能會導致晶圓表面產(chǎn)生非預期的疏水性質(zhì),、增加表面的粗糙度、產(chǎn)生霧化表面,、和破壞外延層的生長,，且在未先移除污染物的情況下，也會影響金屬污染的清洗效果,。粒子污染則可能導致在蝕刻及微影工藝中,，產(chǎn)生阻塞或遮蔽效應；在薄膜成長或沉積過程中,，產(chǎn)生針孔和微孔,，若粒子顆粒較大且具有導電性，甚至會導致線路短路,。半導體元件生產(chǎn)過程中產(chǎn)生廢品的原因,，50%是由清洗試劑以及材料內(nèi)部的污染元素造成的！

2 解決方案

通過配置高靈敏PlasmaQuant MS ICP-MS和濕法multi N/C UV HS總有機碳分析儀,，可以滿足SEMI F57中對于金屬元素及總有機碳檢測的所有需求,，簡單、快捷,、可靠,！

 

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2. 總有機碳分析：multi N/C UV HS 總有機碳分析儀（TOC）

• 強氧化消解能力保證樣品完全氧化,，254nm和185nm雙波長高能量紫外反應池。

• 全量程高聚焦NDIR檢測器,，0-10000ppm測量范圍,，無需量程轉(zhuǎn)換。自動漂移校正,、補償,， 無需任何稀釋，免維護檢測器，滿足潔凈及污染任何狀態(tài)下樣品分析,。

• 較強的抗干擾能力,，避免其他雜質(zhì)共存干擾。

• 高靈敏度,，高達20mL進樣體積,，靈活調(diào)節(jié)靈敏度，擴展應用范圍,。

• 免維護帕爾貼干燥單元,，無需模式干燥器及化學干燥劑，節(jié)省成本,，操作更為簡便。

• VITA流速管理系統(tǒng),，實時提供流速補償消除波動,，得到絕對可靠的分析結(jié)果，儀器長期穩(wěn)定,，一年內(nèi)無需反復校正,。

• 較強的耐鹽能力，最高可允許85g/L含鹽樣品直接進樣分析,。

3 小結(jié)

根據(jù)標準SEMI F57：用于超純水和液態(tài)化學品輸送系統(tǒng)的聚合物材料及組件的規(guī)范文件要求,，評價半導體輸送管道的性能，鑒于浸泡液的成分多樣性,，需要儀器具有較強的抗干擾能力,，同時對于潔凈與污染的評估需求，需要儀器既具有高靈敏度,，又具有寬范圍的能力,。

?德國耶拿長期致力于金屬離子及總有機碳分析全套解決方案，深耕元素分析領域,，積累眾多分析經(jīng)驗,。德國品質(zhì)，追求創(chuàng)新,，德國耶拿PlasmaQuant MS電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）和multi N/C UV HS總有機碳分析儀完全滿足SEMI F57標準中規(guī)定的22種金屬離子和總有機碳參數(shù)的檢測,，助力半導體行業(yè)的發(fā)展！