前言
自1947年第一塊晶體管誕生,,人類從此步入了飛速發(fā)展的電子時代,。經(jīng)歷70多年的發(fā)展,,半導(dǎo)體技術(shù)不僅在先進(jìn)科研領(lǐng)域,,也早已與人們的日常生活密不可分,,如半導(dǎo)體芯片,、智能汽車、智慧電網(wǎng),、5G通信,、航空航天、國防,、醫(yī)療衛(wèi)生等等,。
1 挑戰(zhàn)
半導(dǎo)體中雜質(zhì)的存在使嚴(yán)格按周期性排列的原子所產(chǎn)生的周期性勢場受到破壞,,這對半導(dǎo)體材料的性質(zhì)產(chǎn)生決定性的影響。因此,,痕量水平半導(dǎo)體行業(yè)無機(jī)雜質(zhì)和有機(jī)污染物的檢測是操作過程中的一項重大挑戰(zhàn),。
什么是無機(jī)雜質(zhì)?無機(jī)雜質(zhì),,按照雜質(zhì)電離能的大小可分為淺能級雜質(zhì)和深能級雜質(zhì),。淺能級雜質(zhì)對半導(dǎo)體材料導(dǎo)電性質(zhì)影響大,如Ⅲ族元素硼,、鋁,、鎵、銦和V族元素磷,、 砷,、銻;而深能級雜質(zhì)對少數(shù)載流子的復(fù)合影響更顯著,,尤其過渡金屬元素,,如銅、銀,、金,、鐵、鈷,、鎳,、鉻、錳,、鉬等,。除特殊用途外,重金屬元素對于半導(dǎo)體材料都是有害雜質(zhì),。
什么是有機(jī)雜質(zhì)? 有機(jī)雜質(zhì),,也被稱為有機(jī)污染物,其存在可能會導(dǎo)致晶圓表面產(chǎn)生非預(yù)期的疏水性質(zhì),、增加表面的粗糙度,、產(chǎn)生霧化表面、和破壞外延層的生長,,且在未先移除污染物的情況下,,也會影響金屬污染的清洗效果。粒子污染則可能導(dǎo)致在蝕刻及微影工藝中,,產(chǎn)生阻塞或遮蔽效應(yīng),;在薄膜成長或沉積過程中,產(chǎn)生針孔和微孔,,若粒子顆粒較大且具有導(dǎo)電性,,甚至?xí)?dǎo)致線路短路,。半導(dǎo)體元件生產(chǎn)過程中產(chǎn)生廢品的原因,50%是由清洗試劑以及材料內(nèi)部的污染元素造成的,!
2 解決方案
通過配置高靈敏PlasmaQuant MS ICP-MS和濕法multi N/C UV HS總有機(jī)碳分析儀,,可以滿足SEMI F57中對于金屬元素及總有機(jī)碳檢測的所有需求,簡單,、快捷,、可靠!


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01
標(biāo)準(zhǔn)簡介
標(biāo)準(zhǔn)SEMI F57:用于超純水和液態(tài)化學(xué)品輸送系統(tǒng)的聚合物材料及組件的規(guī)范文件,,規(guī)定了在UPW分配系統(tǒng)中輸送超純水(UPW)的超高純度(UHP)聚合物材料和組件的最低性能要求,。主要針對聚合物材料和組件的性能要求和驗證,。
國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會SEMI為半導(dǎo)體制程設(shè)備提供了一系列環(huán)境,、安全和衛(wèi)生方面的準(zhǔn)則,適用于所有用于芯片制造,、量測,、組裝和測試的設(shè)備。半導(dǎo)體先進(jìn)制程工藝中使用的超純水,,超純化學(xué)品的使用要求日益提高,,材料的選擇在半導(dǎo)體濕法工藝中越發(fā)重要,對含氟聚合物的純度要求也越來越高,。SEMI F57標(biāo)準(zhǔn)對UHP液態(tài)化學(xué)品輸送系統(tǒng)(LCDS)中高聚合物材料和組件的選擇,、生產(chǎn)過程、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)設(shè)計等各方面均提出了要求和有效建議,。
02
測試對象
SEMI F57標(biāo)準(zhǔn)適用的主要產(chǎn)品類別有:
1)半導(dǎo)體超純水和液態(tài)化學(xué)品傳送系統(tǒng)中的聚合物材料,、組件及過程設(shè)備;
2)管道,、配件,、閥門、過濾殼體,、壓力傳感器,、流量計、計量器,、校準(zhǔn)器,。
03
檢測項目及限值
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針對金屬離子污染,,主要有22類,,其分別的限制如下:
TOC可以對半導(dǎo)體加工產(chǎn)生影響,,包括硅氧化、蝕刻均勻性,、清洗(包括晶片和掩模),、粘附、柵氧化層擊穿電壓,、外延,、原子層沉積(ALD)、氮化硅的CVD或其他薄膜沉積步驟,。TOC限值要求如下:
04
測試步驟
(1)根據(jù)SEMI F40提取方法的要求進(jìn)行沖洗和浸泡后,,取5cmX5cm樣品,浸泡4個樣品,,1個空白水樣,。分別在24h,72h,,120h,,168h進(jìn)行測試。提取方法如下:
(3) 取樣量 4L/D≥10 (L-長度 D-直徑)
05
檢測設(shè)備
1. 金屬檢測:PlasmaQuant MS 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)
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高靈敏度,,滿足半導(dǎo)體追求極限低含量檢測需求。
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iCRC集成化碰撞反應(yīng)池技術(shù),,高效,、安全、快速,、方便地消除干擾,。
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3D聚焦離子反射鏡在提高靈敏度的同時無需維護(hù)降低背景。
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全數(shù)字檢測系統(tǒng)高達(dá)11個數(shù)量級的線性動態(tài)范圍,,使得高低濃度測量無需分別校正,。
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高解析四極桿提供更好的質(zhì)量分離效果。
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穩(wěn)定強勁的等離子體,,適合任何基體樣品測試,。
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快速分析,冷開機(jī)5分鐘即可達(dá)到工作狀態(tài),。
低消耗,,氬氣消耗量僅為常規(guī)儀器的一半。
2. 總有機(jī)碳分析:multi N/C UV HS 總有機(jī)碳分析儀(TOC)
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強氧化消解能力保證樣品完全氧化,254nm和185nm雙波長高能量紫外反應(yīng)池,。
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全量程高聚焦NDIR檢測器,,0-10000ppm測量范圍,無需量程轉(zhuǎn)換,。自動漂移校正,、補償, 無需任何稀釋,,免維護(hù)檢測器,,滿足潔凈及污染任何狀態(tài)下樣品分析。
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較強的抗干擾能力,,避免其他雜質(zhì)共存干擾,。
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高靈敏度,高達(dá)20mL進(jìn)樣體積,,靈活調(diào)節(jié)靈敏度,,擴(kuò)展應(yīng)用范圍。
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免維護(hù)帕爾貼干燥單元,,無需模式干燥器及化學(xué)干燥劑,,節(jié)省成本,,操作更為簡便,。
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VITA流速管理系統(tǒng),實時提供流速補償消除波動,,得到絕對可靠的分析結(jié)果,,儀器長期穩(wěn)定,一年內(nèi)無需反復(fù)校正,。
較強的耐鹽能力,,最高可允許85g/L含鹽樣品直接進(jìn)樣分析。
3 小結(jié)
根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)SEMI F57:用于超純水和液態(tài)化學(xué)品輸送系統(tǒng)的聚合物材料及組件的規(guī)范文件要求,,評價半導(dǎo)體輸送管道的性能,,鑒于浸泡液的成分多樣性,需要儀器具有較強的抗干擾能力,,同時對于潔凈與污染的評估需求,,需要儀器既具有高靈敏度,又具有寬范圍的能力,。
?德國耶拿長期致力于金屬離子及總有機(jī)碳分析全套解決方案,,深耕元素分析領(lǐng)域,積累眾多分析經(jīng)驗,。德國品質(zhì),,追求創(chuàng)新,德國耶拿PlasmaQuant MS電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)和multi N/C UV HS總有機(jī)碳分析儀完全滿足SEMI F57標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的22種金屬離子和總有機(jī)碳參數(shù)的檢測,助力半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展,!
相關(guān)產(chǎn)品
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