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X射線粉末衍射儀XRD的操作規(guī)程說明
X射線粉末衍射儀XRD,，通常應(yīng)用于晶體結(jié)構(gòu)的分析,。X射線是一種電磁波,入射到晶體時(shí)在晶體中產(chǎn)生周期性變化的電磁場(chǎng)。引起原子中的電子和原子核振動(dòng),因原子核的質(zhì)量很大振動(dòng)忽略不計(jì),。振動(dòng)著的電子是次生X射線的波源,其波長(zhǎng),、周相與入射光相同?；诰w結(jié)構(gòu)的周期性,晶體中各個(gè)電子的散射波相互干涉相互疊加,稱之為衍射,。散射波周相一致相互加強(qiáng)的方向稱衍射方向,產(chǎn)生衍射線。
適用領(lǐng)域：
1.材料晶體大小的測(cè)定期模擬計(jì)算,。
2.半導(dǎo)體基底上薄膜生長(zhǎng)的納米材料分析,。
3.納米材料中的物相定性分析。
4.納米氧化鋅陶瓷的參雜制備及物相分析,、結(jié)構(gòu)表征,、性能和結(jié)構(gòu)分析等。
5.單相和多相的全譜擬合計(jì)算和結(jié)構(gòu)精修
操作規(guī)程：
一,、開機(jī)
1.開啟墻壁總電源,。開啟循環(huán)水電源。開啟穩(wěn)壓電源（等5秒鐘后,，按下“RESET" ),。
2.開啟XRD設(shè)備電源。
3.開啟計(jì)算機(jī)電源,，進(jìn)入XRD應(yīng)用程序,。
4．開啟射線發(fā)生器高壓，進(jìn)入待測(cè)試狀態(tài),。
二、樣品放置,、取出
1.嚴(yán)格按照規(guī)定制樣,，樣品高度與樣品臺(tái)高度一致,，壓平，保持樣品表面光潔平整,。
2.按外側(cè)“OPEN DOOR”鍵解鎖,，手動(dòng)開啟玻璃艙門,，將樣品臺(tái)放入樣品支架卡住,，關(guān)閉艙門鎖好,。取出樣品時(shí),，先按“DOOROPEN”鍵，手動(dòng)開啟艙門,，按下樣品支架后面撥片,，樣品臺(tái)及樣品支架自動(dòng)下落,，取下樣品臺(tái),，關(guān)閉艙門鎖好。
三,、測(cè)試譜線
1.先初始化驅(qū)動(dòng)操作,。先點(diǎn)Requested后面方框,，然后點(diǎn)擊Initdrive,。然后在程序界面中調(diào)整探測(cè)角度范圍,，掃描速度和步長(zhǎng)。
2.根據(jù)測(cè)試需要,，選擇合適寬度的狹縫。低于10度,，須換最小狹縫,。
3.在程序界面上選合適的電壓與電流，鼠標(biāo)點(diǎn)左邊“SET”鍵加高壓,。
4.在參數(shù)設(shè)置正確的情況下,，點(diǎn)“START”,開始采集譜線。
5.選擇需要的XRD譜數(shù)據(jù),，先保存到硬盤,，再光盤刻錄導(dǎo)出數(shù)據(jù),。
四,、關(guān)機(jī)
1.先在計(jì)算機(jī)XRD應(yīng)用程序里將電壓和電流降到最小點(diǎn)擊”SET”。
2.需等“3分鐘”,，待燈絲冷卻后，再逆時(shí)針旋動(dòng)高壓撥桿,，關(guān)高壓。
3.再等“10分鐘”,，待高壓部件冷卻后,，斷開儀器電源（儀器右下方外側(cè)，綠色圓鈕上面的紅色圓鈕),，指示燈滅掉。關(guān)閉穩(wěn)壓電源,。關(guān)閉循環(huán)水電源,。
4.關(guān)閉計(jì)算機(jī)XRD 應(yīng)用程序，關(guān)閉計(jì)算機(jī),。關(guān)閉墻壁大閘電源,。
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