從硅片到電池片,，看看等離子清洗技術(shù)如何用？

硅基光伏電池片制程

從硅片到電池片：

從目前主流的單晶硅PERC電池制作流程為例,，從硅片到電池片大概要經(jīng)歷：

清洗制絨→擴(kuò)散制結(jié)→刻蝕&去磷硅玻璃→PECVD→印刷電極&燒結(jié)→分選測(cè)試/檢驗(yàn)入庫(kù)等,，而在清洗、制絨,、刻蝕,、PECVD等環(huán)節(jié)，均可使用晟鼎等離子清洗機(jī),，下面我們來(lái)看具體的應(yīng)用,。

等離子在電池片工藝中的應(yīng)用

01清洗與制絨

在清洗與制絨工藝環(huán)節(jié)，一般是用堿性或酸性腐蝕液進(jìn)行濕式化學(xué)清洗,，制絨效果不僅受多因素影響,，且多孔硅結(jié)構(gòu)松散不穩(wěn)定,，具有較高表面復(fù)合率。

等離子清洗機(jī)處理方案：

使用等離子體的高速粒子轟擊電池片表面,，可將絨面處理的更加細(xì)致有序,，表面結(jié)構(gòu)也更加穩(wěn)定，減少?gòu)?fù)合中心的產(chǎn)生,；還可同時(shí)清除材料表面的指紋油污,，減少濕式處理的烘干環(huán)節(jié)。

02刻蝕&去磷硅玻璃

在上道擴(kuò)散工序中,，PN結(jié)的正面所收集到的光生電子會(huì)沿著邊緣擴(kuò)散有磷的區(qū)域流到pn結(jié)的背面,，從而造成短路。因此,，必須對(duì)太陽(yáng)能電池周邊的摻雜硅進(jìn)行刻蝕,，以去除電池邊緣的PN結(jié)。

通常采用等離子刻蝕技術(shù)完成這一工藝,。等離子體可以通過(guò)粒子吹掃將多余擴(kuò)散的磷分解,，從而達(dá)到去除PSG的目的。

03 PECVD

為了減少表面反射,，提高電池的轉(zhuǎn)換效率,，需要沉積一層氮化硅減反射膜。

工業(yè)生產(chǎn)中常采用PECVD設(shè)備制備減反射膜,，PECVD即等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積,，它是利用低溫等離子體作能量源，產(chǎn)品置于低氣壓下輝光放電的陰級(jí)上,，利用輝光放電使產(chǎn)品升溫到預(yù)定的溫度,，然后通過(guò)適量的反應(yīng)氣體SiH4和NH3，氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng),，在產(chǎn)品表面形成固態(tài)薄膜即氮化硅薄膜,。

晟鼎等離子清洗機(jī)

適用于光伏玻璃、電池片,、背板,、框架等部件的清洗活化，可搭配直噴或旋轉(zhuǎn)槍頭,，可定制大氣等離子流水線設(shè)備,。

適用于光伏玻璃、電池片,、背板,、框架等部件的清洗活化，可客制化寬幅線性等離子流水線設(shè)備。

適用于面積大,、形狀復(fù)雜的材料清洗,，可搭配多路工藝氣體，可客制化真空等離子流水線設(shè)備,。

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