為了研究植物生長、產(chǎn)量和品質(zhì)與光能利用的關系,，需要調(diào)查植物冠層中的光能資源,，測量植物冠層對光的截獲量。  在不成熟的過去,，研究人員很難對技術進行測量和分析,，這往往需要大量的時間和精力。  如今,，隨著科學技術的發(fā)展,，冠層分析儀已經(jīng)被研究人員很好的使用。  從實際應用來看,，該儀器仍然可以發(fā)揮很大的作用,。  

首先，我們來說說直接測量和間接測量是如何進行的,。  直接測量是測量所有葉片的葉面積,，然后計算LAI。因為要測量的葉片都要剪掉,，所以大部分都是破壞性測量,，或者至少會干擾冠層和葉角的分布,，從而影響數(shù)據(jù)的質(zhì)量。直接測量費時費力,。  間接測量是利用冠層結構與冠層內(nèi)輻射和環(huán)境相互作用的耦合關系,，通過冠層分析儀測量植物冠層的相關數(shù)據(jù)，通過植物冠層的傳輸模型推斷LAI,。  

冠層分析儀通過處理圖像數(shù)據(jù)文件,，如葉面積指數(shù)、光照間隙,、間隙分布等,，獲得冠層結構。  通過分析輻射數(shù)據(jù)的相關信息,，可以計算出冠層截獲的PAR和冠層以下的輻射水平,。  因此，與直接測量法相比,，利用冠層分析儀測量冠層數(shù)據(jù)可以避免直接測量法帶來的大規(guī)模破壞植被的缺點,。而且使用儀器進行測量操作具有方便、快捷,、不受時間限制,、獲取數(shù)據(jù)量大等優(yōu)點，非常適合現(xiàn)代農(nóng)業(yè)科研,。目前,，冠層分析儀廣泛應用于農(nóng)業(yè)、園藝,、林業(yè)的栽培,、育種和植物群體比較與發(fā)展的研究和教學中，并在實際應用中發(fā)揮了作用,。