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激光直寫(xiě)是制作衍射光學(xué)元件的主要技術(shù)之一,，它利用強(qiáng)度可變的激光束對(duì)基片表面的抗蝕材料實(shí)施變劑量曝光,，顯影后便在抗蝕層表面形成要求的浮雕輪廓,。激光直寫(xiě)技術(shù)主要用于制作平面計(jì)算全圖,、掩模,、微透鏡,、微透鏡陣列、Fresnel微透鏡,、Fresnel波帶板,、連續(xù)位相浮雕的閃耀光學(xué)元件等，制作工藝己經(jīng)逐漸成熟,。
激光直寫(xiě)是利用強(qiáng)度可變的激光束對(duì)基片表面的抗蝕材料實(shí)施變劑量曝光,，顯影后在抗蝕層表面形成所要求的浮雕輪廓。激光直寫(xiě)系統(tǒng)的基本工作原理是由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束掃描,，在光刻膠上直接曝光寫(xiě)出所設(shè)計(jì)的任意圖形,，從而把設(shè)計(jì)圖形直接轉(zhuǎn)移到掩模上。激光直寫(xiě)系統(tǒng)的基本結(jié)構(gòu)主要由He-Cd激光器,、聲光調(diào)制器,、投影光刻物鏡、CCD攝像機(jī),、顯示器,、照明光源、工作臺(tái),、調(diào)焦裝置,、He-Ne激光干涉儀和控制計(jì)算機(jī)等部分構(gòu)成。激光直寫(xiě)的基本工作流程是：用計(jì)算機(jī)產(chǎn)生設(shè)計(jì)的微光學(xué)元件或待制作的VLSI掩摸結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù),；將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成直寫(xiě)系統(tǒng)控制數(shù)據(jù),，由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束在光刻膠上直接掃描曝光；經(jīng)顯影和刻蝕將設(shè)計(jì)圖形傳遞到基片上,。
桌面級(jí)三維激光直寫(xiě)設(shè)備是緊湊型,、桌?級(jí)、經(jīng)濟(jì)型設(shè)計(jì)，基于多光?聚合原理,，實(shí)現(xiàn)納?級(jí)精度三維結(jié)構(gòu)加?,。
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