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測量技術(shù)與儀器發(fā)展趨勢

來源:北京瀚華明倫科技有限公司   2022年11月24日 08:25  

測量技術(shù)與儀器涉及所有物理量的測量,,對于材料,、工程科學(xué),、能源科學(xué)關(guān)系密切,。目前的發(fā)展趨勢有以下幾點(diǎn):   

(1)以自然基準(zhǔn)溯源和傳遞,,同時在不同量程實(shí)現(xiàn)比對,。如果自己沒有能力比對就要依靠其它國家,。   

(2)高精度。目前半導(dǎo)體工藝的典型線寬為0.25μm,,并正向0.18μm過渡,,2009年的預(yù)測線寬是0.07μm。如果定位要求占線寬的1/3,,那么就要求10nm量級的精度,而且晶片尺寸還在增大,,達(dá)到300mm,。這就意味著測量定位系統(tǒng)的精度要優(yōu)于3×10的-8次方,相應(yīng)的激光穩(wěn)頻精度應(yīng)該是10的-9次方數(shù)量級,。   

(3)高速度,。目前加工機(jī)械的速度已經(jīng)提高到1m/sec以上,,上世紀(jì)80年代以前開發(fā)研制的儀器已不適應(yīng)市場的需求。例如惠普公司的干涉儀市場大部分被英國Renishaw所占領(lǐng),,其原因是后者的速度達(dá)到了1m/sec,。   

(4)高靈敏,高分辨,,小型化,。如將光譜儀集成到一塊電路板上。   

(5)標(biāo)準(zhǔn)化,。通訊接口過去常用GPIB,,RS232,目前有可能成為替代物的高性能標(biāo)準(zhǔn)是USB,、IEEE1394和VXI?,F(xiàn)在,技術(shù)者設(shè)法控制技術(shù)標(biāo)準(zhǔn),,參與標(biāo)準(zhǔn)制訂是儀器開發(fā)的基礎(chǔ)研究工作之一,。   

我國儀器科技的發(fā)展現(xiàn)狀

(1)由于長期習(xí)慣于仿制國外產(chǎn)品,我國的儀器儀表工業(yè)缺乏創(chuàng)新能力,,跟不上科學(xué)研究和工程建設(shè)的需要,。   

(2)我國儀器科學(xué)與技術(shù)研究領(lǐng)域積累了大量科研成果,許多成果處于較高水平,,有待篩選,、提高和轉(zhuǎn)化,但產(chǎn)業(yè)化程度很低,,沒有形成具有競爭力的完整產(chǎn)業(yè),。   

未來發(fā)展趨勢   

1.發(fā)展方向與學(xué)科前沿   

(1)配合數(shù)控設(shè)備的技術(shù)創(chuàng)新(如主軸速度,精度創(chuàng)成)   數(shù)控設(shè)備的主要誤差來源可分為幾何誤差(共有21項(xiàng))和熱誤差,。對于重復(fù)出現(xiàn)的系統(tǒng)誤差,,可采用軟件修正;對于隨機(jī)誤差較大的情況,,要采用實(shí)時修正方法,。對于熱誤差,一般要通過溫度測量進(jìn)行修正,。我國機(jī)床行業(yè)市場同時又大量進(jìn)口國外設(shè)備的原因之一就是因?yàn)檫@方面的技術(shù)沒有得到推廣應(yīng)用,。為此,需要高速多通道激光干涉儀:其測量速度達(dá)60m/min以上,,采樣速度達(dá)5000次/sec以上,,以適應(yīng)熱誤差和幾何誤差測量的需要??諝庹凵渎蕦?shí)時測量應(yīng)達(dá)到2×10的-7次方水平,,其測量結(jié)果和長度測量結(jié)果可同步輸入計算機(jī),。   

(2)運(yùn)行和制造過程的監(jiān)控和在線檢測技術(shù)   綜合運(yùn)用圖像、頻譜,、光譜,、光纖以及其它光與物質(zhì)相互作用原理的傳感器具有非接觸、高靈敏度,、高柔性,、應(yīng)用范圍廣的優(yōu)點(diǎn)。在這個領(lǐng)域綜合創(chuàng)新的天地十分廣闊,,如振動,、粗糙度、污染物,、含水量,、加工尺寸及相互位置等。

(3)配合信息產(chǎn)業(yè)和生產(chǎn)科學(xué)的技術(shù)創(chuàng)新   為了在開放環(huán)境下求得生存空間,,沒有自主創(chuàng)新技術(shù)是沒有出路的,。因此應(yīng)該根據(jù)有有技術(shù)含量、有市場等原則選擇一些項(xiàng)目予以支持,。根據(jù)當(dāng)前發(fā)展現(xiàn)狀,,信息、生命醫(yī)學(xué),、環(huán)保,、農(nóng)業(yè)等領(lǐng)域需要的產(chǎn)品應(yīng)給予優(yōu)先支持。如醫(yī)學(xué)中介入治療的精密儀器設(shè)備,、電子工業(yè)中的超分辨光刻和清潔方法和機(jī)理研究等,。   

2.優(yōu)先領(lǐng)域   

在基礎(chǔ)研究的初期,對于能否有突破性進(jìn)展是很難預(yù)測的,。但是,,當(dāng)已經(jīng)取得突破性進(jìn)展時,則需要有一個轉(zhuǎn)化機(jī)制以進(jìn)入市場,。   

  • 納米溯源技術(shù)和系統(tǒng),。   

  • 介入安裝和制造的坐標(biāo)跟蹤測量系統(tǒng)。   

關(guān)鍵理論和技術(shù):超半球反射器(n=2或在機(jī)構(gòu)上創(chuàng)新),,快速,、多路干涉儀(頻差3~5兆),二維精密跟蹤測角系統(tǒng)(0.2″~0.5″),,通用信號處理系統(tǒng)(工作頻率5兆),,無導(dǎo)軌半導(dǎo)體激光測量系統(tǒng)(分辨率1μm),熱變形仿真,,力變形仿真,。   這些內(nèi)容不局限于一種技術(shù)方案,而是幾種不同技術(shù)方案中概括出來的共同點(diǎn),。如采用無導(dǎo)軌干涉儀,,對跟蹤系統(tǒng)的要求可以降低;采用二維精密跟蹤測角系統(tǒng)在1M3測量范圍內(nèi)可以得到高精度,;有了超半球反射鏡可以提高4路跟蹤方案的精度,。在現(xiàn)場進(jìn)行介入制造和裝配不能等待很長時間,力和熱變形的補(bǔ)償是必須的而且需要足夠快,,現(xiàn)在的技術(shù)還有相當(dāng)大的差距,,所以這些進(jìn)展是關(guān)鍵性的。   

應(yīng)用范圍:新型并行機(jī)構(gòu)機(jī)床的鑒定,,飛機(jī)裝配型架的鑒定,,大型設(shè)備安裝,用于生物芯片精密機(jī)器人校準(zhǔn)等,。   

  • 非接觸測頭以及各種掃描探針顯微鏡   航空航天行業(yè)對此已經(jīng)提出迫切要求,,這是今后坐標(biāo)測量機(jī)發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)。目前接觸式測頭已*被國外所壟斷,,非接觸測頭還沒有發(fā)展成熟,,我們有參與競爭的機(jī)遇。以前較多采用的激光三角法原理受到很多限制,,難以有突破性進(jìn)展,,但可在原理創(chuàng)新上下功夫。應(yīng)該突破0.1~0.5μm分辨率,。   

  • 計算機(jī)輔助測量理論   

信號處理系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)化,、模塊化、兼容和集成,。例如,,目前多數(shù)采用ISA總線、IEEE488口,,今后計算機(jī)可能取消ISA總線,,用于筆記本電腦的USB接口將廣泛應(yīng)用。過去,,我國生產(chǎn)的儀器滿足于數(shù)字顯示,,沒有數(shù)據(jù)交換接口,難以進(jìn)入市場,。國外生產(chǎn)的儀器普遍配備IEEE488(GPIB)口,。RS232:目前有可能成為替代物的高性能標(biāo)準(zhǔn)是USB、IEEE1394和VXI,。在此轉(zhuǎn)折期為我們提供了機(jī)遇,。目前虛擬儀器的工作頻段在千赫數(shù)量級,,對于干涉信號處理顯得太低,可以采取聯(lián)合互補(bǔ)的方法形成模塊系列,,同時降低成本,,從總體上提高研發(fā)工作的效率。根據(jù)已有基礎(chǔ),,發(fā)展特長,,有利于克服重復(fù)研究。   

  • 新器件,,新材料   

過去,,科研評價體系存在偏重于整機(jī)和系統(tǒng),忽視材料和器件的趨向,。新的突破點(diǎn)可能出現(xiàn)在新光源,、新型高頻探測器。目前探測器的響應(yīng)頻率只有10的9次方,,而光頻高達(dá)10的14次方,,目前干涉儀實(shí)際上是起著混頻器的作用,適應(yīng)探測器的不足(如果探測器的響應(yīng)果真能超過光頻,,干涉儀也就沒有用了),。如果探測器的性能得到顯著提高,對于通訊也是很大的突破,。   

(6)半導(dǎo)體激光器計量特性的研究和創(chuàng)新   半導(dǎo)體激光器用于計量需要解決很多問題(如線寬,、定標(biāo)、變頻等),。但如果解決了諸多問題以后,,半導(dǎo)體激光系統(tǒng)比氣體激光系統(tǒng)更復(fù)雜,就不會有競爭力,。有些問題在物理層面上也沒有完*,。例如半導(dǎo)體激光器如果能形成雙頻,無疑是一種十分重要的特性,,如果既能掃頻又有兩個相近的頻率掃描,,就會成為一種新的無導(dǎo)軌測量工具。




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