光譜儀使用之后如何有效清洗

來源：北京華科天成科技有限公司 2022年10月20日 08:59

　　ICP的基本結構包括：等離子體光源,、進樣系統(tǒng)、氣體控制系統(tǒng),、光學系統(tǒng),、檢測器和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)，每一部分又包括著不同的部件，如進樣系統(tǒng)里的矩管,、霧化器和霧室等。

　　光譜儀在使用之后應該如何有效清洗配件結構,？

　　進樣系統(tǒng)的清洗

　　1矩管的清洗

　　(1)鹽分沉積——將矩管倒扣,，放入裝有1：1硝酸的燒杯中浸泡24小時，以除去矩管上的積鹽,；

　　(2)金屬沉積——卸下石英矩管,，將噴嘴進入熱酸中(稀王水,、硝酸或鹽酸)中；

　　(3)碳沉積——將矩管放入750℃馬弗爐中,，打開馬弗爐幾秒鐘,，讓空氣進入，再次將溫度升至750℃,。重復幾次以清除碳沉積,，待馬弗爐冷卻后，再將石英矩管取出,。清洗后,，使用去離子水沖洗，吹干,。

　　2霧室和霧化器的清洗

　　(1)玻璃混合霧化室的清洗

　　如果霧化室壁上有掛水珠,，這些大液滴排出時，會引起霧化室內(nèi)壓力變化從而導致樣品霧化效率降低,。因此,，可以拆除霧室，浸泡于10%左右的稀硝酸中,，保持低溫微沸煮半小時以上,，再用去離子水清洗，吹干,。

　　(2)霧化器堵塞的去除

　?、賹⑦M樣管拆除，霧化器噴嘴朝上輕輕敲擊以使顆粒物松散,，并在重力作用下排出,；

　　②在噴嘴處接入壓縮空氣(15~30psig)“反吹”噴嘴和環(huán)面,，用手指堵住進樣口和載氣口,，然后突然釋放進樣口以清除毛細管顆粒堵塞，或突然釋放載氣口以清除載氣顆粒堵塞,；

　?、墼趪娮焯幏聪蛲ㄈ氘惐迹诡w粒物流出,；

　?、軞饴分锌赡苡蠵TEE碎屑時，將霧化器噴嘴浸到熱水中,，并在側(cè)壁加壓,，熱水使聚合物分散并從噴嘴排出；

　?、輰τ诠桀愵w粒堵塞,，可使用3%~5%氫氟酸清洗,，吸取清洗液5~10秒后，立即用大量清水沖洗,，重復3~5次,。注意：氫氟酸有毒性，使用時應戴好手套,，做好防護措施,，氫氟酸清洗的時間和濃度要準確控制，清洗后應*清除氫氟酸并使霧化器干燥,，以防止氫氟酸對噴嘴處毛細管的腐蝕,。

　　⑤切勿使用超聲波清洗霧化器,，因為毛細管中會有共振,，碰到噴嘴的內(nèi)壁會使毛細管口破裂，霧化器性能大大降低,。

　　循環(huán)冷卻水機清洗

　　冷卻水的溫度設置一般要比室溫低5℃,，每小時的溫度變化不超過0.2℃，至少每半年進行一次清洗,，清洗步驟如下：

　?、購膬x器回流到冷水機的進水端處卸下管子；

　?、谛_排水口閥門,，排凈水箱中的水；

　?、墼谒渲屑尤肴ルx子水至水箱綠色和黃色刻線中間；

　?、苄吓潘陂y門,，接好進水端管子，打開電源,，清洗系統(tǒng),。

相關產(chǎn)品

凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品,，未經(jīng)本網(wǎng)授權不得轉(zhuǎn)載,、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的,，應在授權范圍內(nèi)使用,，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,，本網(wǎng)將追究其相關法律責任,。
本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品,，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任,。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,，并自負版權等法律責任。
如涉及作品內(nèi)容,、版權等問題,，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關權利,。

聯(lián)系我們