microphase石墨烯合成裝置MPCVD-50介紹

來源：秋山科技（東莞）有限公司 2022年09月07日 17:46

microphase石墨烯合成裝置MPCVD-50介紹

用于碳納米管的合成,、碳成膜、納米陶瓷成膜,、氮化、硫屬化物成膜等,。

目的：	用于合成碳納米管,、在粉末樣品上沉積碳膜以及各種 CVD 膜沉積的通用管式爐型熱 CVD 設備。通過增加氨氣,、各種CVD反應氣體,、升華固體前驅體、液體前驅體的引入單元,，可應用于氮化,、硫屬化物（二硫化鉬MoS2等）層狀材料沉積等,。
特征：	配備液體燃料（乙醇）引入系統(tǒng)，可用于無法安裝烴類氣體的場所,。　3系統(tǒng)質量流量氣體流量控制系統(tǒng),，可以進行精確的氣體控制,。　真空排氣系統(tǒng)是標準設備,，可用作真空爐或氣氛爐。　緊湊而堅固的外殼設計,，易于安裝在桌面實驗室工作臺上,。　高度可擴展且易于處理任何類型的處理。

目的：

用于合成碳納米管,、在粉末樣品上沉積碳膜以及各種 CVD 膜沉積的通用管式爐型熱 CVD 設備。
通過增加氨氣,、各種CVD反應氣體,、升華固體前驅體、液體前驅體的引入單元,，
可應用于氮化,、硫屬化物（二硫化鉬MoS2等）層狀材料沉積等,。

特征：

LIB電池用Si負極材料上的碳涂層

二硫化鉬薄膜

長 CNT/Si 的 SEM 圖像

粉末狀 CNT 的 SEM 圖像

主要規(guī)格

相關產(chǎn)品

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