光柵光譜儀,,是將成分復(fù)雜的光分解為光譜線的科學(xué)儀器,。通過光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影,,或電腦化自動顯示數(shù)值儀器顯示和分析,,從而測知物品中含有何種元素。光柵光譜儀被廣泛應(yīng)用于顏色測量,、化學(xué)成份的濃度測量或輻射度學(xué)分析,、膜厚測量、氣體成分分析等領(lǐng)域中,。
光柵光譜儀的工作原理先是衍射光柵,,它是在一塊平整的玻璃或金屬材料表面(可以是平面或凹面)刻畫出一系列平行、等距的刻線,,然后在整個表面鍍上高反射的金屬膜或介質(zhì)膜,就構(gòu)成一塊反射試驗射光柵,。相鄰刻線的間距d稱為光柵常數(shù),,通常刻線密度為每毫米數(shù)百至數(shù)十萬條,,刻線方向與光譜儀狹縫平行,。入射光經(jīng)光柵衍射后,相鄰刻線產(chǎn)生的光程差,。光柵方程將某波長的衍射角和入射角通過光柵常數(shù)d起來,,為入射光波長,m為衍射級次,,取等整數(shù),。式中的“”號選取規(guī)則為:入射角和衍射角在光柵法線的同側(cè)時取正號,在法線兩側(cè)時取負號,。
光柵作為重要的分光器件,,它的選擇與性能影響整個系統(tǒng)性能。
光柵分為刻劃光柵,、復(fù)制光柵,、全息光柵等,。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂薄金屬表面機械刻劃而成,;復(fù)制光柵是用母光柵復(fù)制而成,。典型刻劃光柵和復(fù)制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成,。全息光柵通常包括正弦刻槽,。刻劃光柵具有衍射效率高的特點,,全息光柵光譜范圍廣,,雜散光低,且可作到高光譜分辨率,。
在曲率半徑為R的凹面反射光柵的主截面上(即通過光柵中心而垂直于光柵刻線的平面),,存在一個直徑為R的圓。當(dāng)狹縫和光柵都在這個圓上時,,則這個圓就是狹縫衍象焦點的軌跡,。這個圓稱為羅蘭(Rowland)圓,這時凹面光柵同時起到準直與聚焦的作用,。
光柵方程同樣也適用于凹面光柵:d(sinα+sinβ)=ml (m=0,,±1,±2……)
但式中光柵常數(shù)d并不是光柵刻線間的距離d’,,而是d’在弦上的投影,,即d=d’cosα。在凹面光柵表面上,,刻線是不等距離的,,而光柵圓弧所對應(yīng)的弦上是等距離的。由于凹面光柵曲率半徑比羅蘭圓大一倍,,所以必須保證凹面光柵的中點與羅蘭圓相切,,其他各點對稱地偏離羅蘭圓。
選擇光柵主要考慮如下因素:
1,、閃耀波長,,閃耀波長為光柵*大衍射效率點,因此選擇光柵時應(yīng)盡量選擇閃耀波長在實驗需要波長附近,。如實驗為可見光范圍,,可選擇閃耀波長為500nm。
2,、光柵刻線,,光柵刻線多少直接關(guān)系到光譜分辨率,刻線多光譜分辨率高,刻線少光譜覆蓋范圍寬,,兩者要根據(jù)實驗靈活選擇,。
3、光柵效率,,光柵效率是衍射到給定級次的單色光與入射單色光的比值,。光柵效率愈高,信號損失愈小,。為提高此效率,,除提高光柵制作工藝外,還采用特殊鍍膜,,提高反射效率,。
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