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一,、高流速，低壓力和清洗頻率
(1)清洗的流速
裝置運(yùn)行時,，附著性高的粒子狀污染物逐漸堆積在膜表面,。如果清洗時的流速與運(yùn)行時的流速相等或更低，則很難把這些污染物從膜元件中清洗出來,。
(2)清洗壓力
正常高壓運(yùn)轉(zhuǎn)時,，壓力直接垂直作用膜面，使進(jìn)水透過膜面得到產(chǎn)水,，同時污染物也被壓向膜面,。所以在清洗時，如果采用同樣的高壓,，則污染物被積壓在膜表面,，清洗的效果就會降低。清洗時盡可能的通過低壓,，高流速的方式,，增加水平方向的剪斷力把污染物沖岀膜元件。
(3)清洗頻率條件允許的情況下,，建議經(jīng)常對系統(tǒng)進(jìn)行清洗,。增加清洗的次數(shù)比延長1次清洗的時間更為有效般清洗的頻率。
(3)化學(xué)清洗：主要是通過化學(xué)藥劑對濾膜進(jìn)行清洗,，所以要選擇適宜的化學(xué)藥劑,。
二、因素：
(1)首先要與設(shè)備制造商,、R0膜元件廠商R0特用化學(xué)藥劑及服務(wù)人員取得聯(lián)系,。確定主要的污染物，選擇合適的化學(xué)淸洗藥劑,。
(2)有時針對某種特殊的污染物或污染狀況,，要使用RO藥劑制造商的專用化學(xué)淸洗藥劑，并且在應(yīng)用時,，要遵循藥劑供應(yīng)商提供的產(chǎn)品性能及使用說明,。
(3)特殊情況下可針對具體情況，從反滲透裝置取岀已發(fā)生污染的單支膜元件進(jìn)行測試和清洗試驗,，以確定合適的化學(xué)藥劑和清洗方案,。
三,、EDI模塊清洗操作步驟：
1.濃水室結(jié)垢清洗；
2.記錄清洗前所有數(shù)據(jù),；
3.分離EDI膜塊與其他設(shè)備的連接管路,；
4.連接清洗裝置(見清洗流程圖)，使清洗泵通過濃水管路進(jìn)入EDI膜塊再回到清洗水箱,，濃水進(jìn),、出水閥開啟，關(guān)閉EDI淡水進(jìn)水閥和產(chǎn)水閥,；
5.在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液,；
6.啟動清洗泵，調(diào)節(jié)濃水進(jìn)水閥,，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗(酸洗步驟),。(參見附表)停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液,，分離濃水排水閥至地溝,；
7.向清洗水箱連續(xù)注入清水(RO產(chǎn)水)，啟動清洗泵連續(xù)清洗(沖洗步驟),；
8.打開EDI進(jìn)水閥和產(chǎn)水閥,，同時對兩個水室進(jìn)行沖洗；
9.檢測濃水出水側(cè)的水質(zhì),，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近,；
10.各個閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計流量數(shù)據(jù),；
11.恢復(fù)EDI各個管路與其他系統(tǒng)的連接,；
12.開啟PLC控制柜電源，向EDI膜塊送電,，轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行,，并作好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。
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