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如何選擇和使用氧化物終拋液

來源:上海西努光學(xué)科技有限公司   2022年06月30日 15:57  

最終拋光液是為了去除金剛石拋光步驟后留下的最后一層表面變形/劃痕,。針對不同的材料類型和制備分析要求,,標樂有多種氧化物拋光介質(zhì)可供選擇,。

終拋液是否會結(jié)晶?

終拋液在使用過程中有可能結(jié)晶,,懸浮液由于結(jié)晶溫度較低且容易蒸發(fā),,并可能在拋光表面形成難以去除的晶體。這在MasterMet等常規(guī)二氧化硅懸浮液中很常見,,但也有不結(jié)晶的終拋液,,如 MasterMet 2。在使用常規(guī)二氧化硅懸浮液拋光后,,建議立即清洗拋光布,,以防結(jié)晶。非結(jié)晶型二氧化硅懸浮液則不用擔(dān)心二氧化硅的結(jié)晶,,因此清潔要求較低,,使用過程中具有一定的優(yōu)勢,尤其在振動拋光時,。

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下圖(a)顯示了常規(guī)二氧化硅在低速清洗拋光后幾秒鐘的再結(jié)晶效果,。

懸浮液在表面形成了一個玻璃層,在隨后的清潔過程中往往會裂開,,造成輕微的劃痕,,并在表面嵌入二氧化硅污染物。


上圖(b)顯示了放置幾分鐘的終拋液滴,,以進一步說明蒸發(fā)效應(yīng)和隨后的再結(jié)晶,。MasterMet和MasterPrep都會結(jié)晶,建議在拋光后立即清洗樣品和拋光布,,所以在終拋最后10-15秒用水邊拋光邊沖洗,。

用水沖洗表面也有助于保證拋光布的表面清潔,確保拋光布有更長的使用壽命,。

終拋液使用量,?

氧化物拋光懸浮液通常用在柔軟絨毛拋光布或無紡拋光布上,,如MicroFloc、MicroCloth,、MasterTex或ChemoMet等,。

使用時確保拋光布的表面被懸浮液充分浸潤,柔軟絨毛拋光布或無紡拋光布在使用過程中能保留足夠的液體,,以確保拋光效果。

下圖中展示了確保拋光性能的氧化物拋光液理想用量(保證潤濕性),。

清潔注意事項,?

強烈建議在最后拋光步驟的最后10-15秒,通過用水沖洗表面來預(yù)清潔樣品和拋光布,,如下圖所示,。

用水沖洗表面有助于去除拋光布表面和樣品上的氧化物拋光介質(zhì)。這樣做的好處是通過表面干凈的拋光布來確保拋光的可重復(fù)性,,同時也提高了拋光布的使用壽命,。

在儲存拋光布之前,還要用水進行一次人工清洗,。最后的手工清潔可以使用一個小的塑料刮刀或木質(zhì)攪拌棒,,當水在旋轉(zhuǎn)的拋光布上沖刷時,刮掉殘余的氧化物懸浮物(轉(zhuǎn)速最好≤200rpm),。洗凈后的拋光布在支架上晾干后存儲,。

當使用氧化鋁懸浮液和粉末時,清洗后的拋光布表面仍會殘留少量氧化鋁顆粒,,拋光布使用時間越長越明顯,。

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即使經(jīng)過良好的清潔,在最后的拋光階段后也會出現(xiàn)上圖這種情況,,此屬正常,,所以在使用前,特別是在最后步驟前如拋光布是干的,,建議用水重新清潔拋光布,,可使用標樂拋光機自帶的“一鍵清洗”功能進行清潔,然后再開始拋光,。

存儲注意事項,?

懸浮液

·懸浮液應(yīng)儲存在陰涼和干燥的地方,避免陽光直接照射,;

·氧化鋁懸浮液,,如MasterPrep在不使用時會發(fā)生沉淀,建議在使用前充分搖晃,;

·建議在使用懸浮液之前清潔瓶口(MasterMet 2除外),。由于氧化物拋光介質(zhì)的再結(jié)晶作用,,瓶口及瓶蓋會出現(xiàn)結(jié)晶顆粒,在使用過程中會造成劃痕,。

拋光布

·拋光布須小心存放,,以防止碎片或顆粒污染拋光表面;

·避免將拋光布放在工作臺上,,不使用時要收好,;

·為你的拋光布準備一個專門的存儲柜。

怎么選擇拋光時長,?

對于大多數(shù)金屬材料,,推薦拋光時長為2分鐘。即使在低力值的情況下,,也能很好地平衡減少拋光假象,,如邊緣倒圓。對于對于某些特定材料,,如鈦合金等,,建議選擇更長時間,但是微觀結(jié)構(gòu)特征上的邊緣倒圓會變得很明顯,。對于陶瓷材料,,建議延長拋光時間,因為與金屬材料相比,,這些材料的硬度更高,。另需注意的是,前面的制備過程中產(chǎn)生的異常較大劃痕不會在這一步驟中被去除,。

振動拋光 VibroMet™ 2

振動拋光通常是為了消除在研磨拋光機上進行機械拋光后的剩余表面變形,。振動拋光適用于大多數(shù)材料,可使用氧化鋁或二氧化硅懸浮液進行至少半小時的振動拋光,。值得注意的是,,與傳統(tǒng)的研磨拋光機相比,振動拋光機的拋光速度較慢,,根據(jù)材料的類型,,需要較長的拋光時間。常用的拋光液是二氧化硅懸浮液(最好是不結(jié)晶型的MasterMet 2),,拋光布選用絨毛材質(zhì),。

侵蝕拋光的樣品

對于某些材料,氧化物拋光懸浮液可以與腐蝕劑混合,,以幫助溶解難以去除的次表面變形區(qū)域,。這適用于密排六方(HCP)材料,如鈦,、鋯,、鉿等,,該方法通過將腐蝕劑添加到硅基氧化物懸浮液(主要方法)或氧化鋁基懸浮液上,被稱為侵蝕拋光過程,。


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