半導(dǎo)體制造中需要一些有機(jī)物和無(wú)機(jī)物參與完成，另外,，由于工藝總是在凈化室中由人的參與 進(jìn)行,，所以半導(dǎo)體圓片不可避免的被各種雜質(zhì)污染。根據(jù)污染物的來(lái)源,、性質(zhì)等,，大致可分為顆粒、有機(jī)物,、金屬離子和氧化物四大類。

1.1 顆粒

顆粒主要是一些聚合物,、光刻膠和蝕刻雜質(zhì)等,。這類污染物通常主要依靠范德瓦爾斯吸引力 吸附在圓片表面，影響器件光刻工序的幾何圖形的形成及電學(xué)參數(shù),。這類污染物的去除方法主要以物理或化學(xué)的方法對(duì)顆粒進(jìn)行底切，逐漸減小其與圓片表面的接觸面積,，最終將其去除,。

1.2  有機(jī)物

有機(jī)物雜質(zhì)的來(lái)源比較廣泛，如人的皮膚油脂,、細(xì)菌、機(jī)械油,、真空脂,、光刻膠,、清洗溶劑等。這類污染物通常在圓片表面形成有機(jī)物薄膜阻止清洗液到達(dá)圓片表面,，導(dǎo)致圓片表面清洗不*，使得金屬雜質(zhì)等污染物在清洗之后仍完整的保留在圓片表面,。這類污染物的去除常常在清洗工序的進(jìn)行,，主要使用硫酸和雙氧水等方法進(jìn)行。

PMT-2液體顆粒計(jì)數(shù)儀采用英國(guó)普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)傳感器,，雙精準(zhǔn)流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng),，可以對(duì)清洗劑,、半導(dǎo)體、超純水,、電子產(chǎn)品,、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測(cè)和分析,，目前是英國(guó)普洛帝分析測(cè)試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測(cè)領(lǐng)域的重要產(chǎn)品,。