隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,，對工藝技術(shù)的要求越來越高，特別是對半導(dǎo)體圓片的表面質(zhì)量要求越來越嚴(yán),，其主要原因是圓片表面的顆粒和金屬雜質(zhì)沾污會嚴(yán)重影響器件的質(zhì)量和成品率,，在目前的集成電路生產(chǎn)中，由于圓片表面沾污問題,，仍有50%以上的材料被損失掉,。

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，幾乎每道工序中都需要進(jìn)行清洗,，圓片清洗質(zhì)量的好壞對器件性能有嚴(yán)重的影響,。正是由于圓片清洗是半導(dǎo)體制造工 藝中最重要、最頻繁的工步,，而且其工藝質(zhì)量將直接影響到器件的成品率,、性能和可靠性,，所以國內(nèi)外各大公司、研究機(jī)構(gòu)等對清洗工藝的研究一直在不斷地進(jìn)行,。目前已研制出的圓片清洗技術(shù)有：濕法化學(xué)清洗,、超聲清洗、兆聲清洗,、鼓泡清洗,、擦洗,、高壓噴射法,、離心噴射法、流體力學(xué)法,、流體動力學(xué)法,、干法清洗、微集射束流法,、激光束清洗,、冷凝噴霧技術(shù)、汽相清洗,、非浸潤液體噴射法,、在線真空清洗 、RCA清洗,、等離子體清洗,、原位水沖洗等。這些方法和技術(shù)已被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體圓片的清洗工藝中,。

如何判斷晶圓是否達(dá)到一定的清潔度,。一個重要的途徑就是判斷清洗晶圓的溶液的潔凈度。PMT-2液體顆粒計數(shù)儀采用英國普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測傳感器,，雙精準(zhǔn)流量控制-精密計量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng),，可以對清洗劑、半導(dǎo)體,、超純水,、電子產(chǎn)品、平板玻璃,、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測和分析,，目前是英國普洛帝分析測試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測領(lǐng)域的重要產(chǎn)品。