LUYOR-3320新款LED平行光表面檢查燈可用于檢查金屬掩膜版的表面質(zhì)量

LUYOR-3320采用亮度為10顆大功率led光源,，窄角度直射透鏡,，光束集中，不照射操作者眼睛,，不刺眼,，適合長時間工作；可手持操作,，也可以通過臺式支架作為臺式檢查燈使用,。可以多臺組合,，檢查各種尺寸屏幕,，用戶也可以根據(jù)需求選擇多波段光源：白光、特殊綠光,，黃光。

什么是金屬掩模版,？

金屬掩模版又稱光罩：fine metal mask,，縮寫：FMM.

光掩模版、掩膜版,，英文名稱 MASK 或 PHOTOMASK）,，材質(zhì)：石英玻璃、金屬鉻和感光膠,，該產(chǎn)品是由石英玻璃作為襯底,，在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠，成為一種感光材料,，把已設(shè)計好的電路圖形通過電子激光設(shè)備曝光在感光膠上,被曝光的區(qū)域會被顯影出來,，在金屬鉻上形成電路圖形，成為類似曝光后的底片的光掩模版,，然后應(yīng)用于對集成電路進行投影定位,，通過集成電路光刻機對所投影的電路進行光蝕刻，其生產(chǎn)加工工序為：曝光,，顯影,，去感光膠，最后應(yīng)用于光蝕刻,。

什么是光刻,？

光刻（英語：photolithography）是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上,。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層,、介質(zhì)層,，例如玻璃,、SOS中的藍寶石。

首先,，通過金屬化過程,，在硅襯底上布置一層僅數(shù)納米厚的金屬層。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠,。這層光阻劑在曝光（一般是紫外線）后可以被特定溶液（顯影液）溶解,。使特定的光波穿過光掩膜照射在光刻膠上，可以對光刻膠進行選擇性照射（曝光）,。然后使用前面提到的顯影液,，溶解掉被照射的區(qū)域，這樣,，光掩模上的圖形就呈現(xiàn)在光刻膠上,。通常還將通過烘干措施，改善剩余部分光刻膠的一些性質(zhì),。

上述步驟完成后,，就可以對襯底進行選擇性的刻蝕或離子注入過程，未被溶解的光刻膠將保護襯底在這些過程中不被改變,。

刻蝕或離子注入完成后,，將進行光刻的最后一步，即將光刻膠去除,，以方便進行半導(dǎo)體器件制造的其他步驟,。通常，半導(dǎo)體器件制造整個過程中,，會進行很多次光刻流程,。生產(chǎn)復(fù)雜集成電路的工藝過程中可能需要進行多達50步光刻，而生產(chǎn)薄膜所需的光刻次數(shù)會少一些,。

金屬掩模版產(chǎn)品圖片1

金屬掩膜版產(chǎn)品圖片2