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X射線熒光分析儀技術特點介紹

來源:上海首放電子科技有限公司   2021年10月15日 13:38  
  X射線熒光分析儀技術特點介紹:
 
  1、X射線熒光分析儀在測定微量成分時,,由于X射線管的連續(xù)X射線所產生的散射線會產生較大的背景,,致使目標峰的觀測比較困難,。為了降低或消除背景和特征譜線等的散射X射線對高靈敏度分析的影響,,此熒光分析儀配置了4種可自動切換的濾光片,有效地降低了背景和散射X射線的干擾,,調整出*具感度的輻射,,進一步提高了S/N的比值,從而可以進行更高靈敏度的微量分析,。
 
  2,、X射線管的連續(xù)X射線所產生的散射線會產生較大的背景,軟件可自動過濾背景對分析結果的干擾,,從而能確保對任何塑料樣品的進行快速準確的分析,。
 
  3、當某些元素的電子由高等級向低等級越遷時釋放的能量相近,會使此時譜圖的波峰重疊在一起,,由此產生了重疊峰,。自行開發(fā)的軟件自動剝離重疊峰,確保了元素分析的正確性,。
 
  4,、逃逸峰:由于采用的是Si針半導體探測器,因此當X射線熒光在通過探測器的時候,,如果某種元素的含量較高(能量也會相應的較高),,其被Si吸收的概率也就越大。此時,,光譜圖中在該元素的能量值減去Si能量值的地方回產生一個峰,,此峰即為逃逸峰。
 
  5,、在電壓不穩(wěn)的情況下,,可對掃描譜圖的漂移進行自動追蹤補償。

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