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晶體是一種石英結(jié)晶體礦物,，它的主要化學成份是二氧化硅SiO2，一般分為兩種,，即天然晶體和人工晶體,。天然晶體資源比較稀缺，而人工晶體,，資源較為豐富,，因此生產(chǎn)晶振基本上多選自人工晶體。
晶片愈厚對晶體的起振性能,、電阻的影響愈大,，清除晶片因研磨造成的表面松散層的深腐蝕方法較為有效。
晶片光潔度的提高對鍍膜的附著率造成影響,，如果附著率無保證,，會造成頻率的不穩(wěn)定。為了保證晶片的附著率,，采用先鍍一層附著率好的鉻,，然后再鍍銀或者金等金屬。
我們的晶片腐蝕清洗機是根據(jù)石英晶片生產(chǎn)企業(yè)設計的一款高性能晶片腐蝕清洗設備,，雙槽式設計,，外殼采用電器控制元件。
主要特點：
1.帶有上下抖動功能,，能有效充分的腐蝕晶片,。
2.腐蝕槽可采用石英缸，也可采用進口PP槽,。
3.自動補液,，自動放液,，減少人為操作。
4.水沖洗槽采用循環(huán)水,，自動溢流,，節(jié)約水源。
5.可采全自動方式,，也可采用手動控制方式,。
6.晶片腐蝕清洗機
超聲波清洗原理：
由超聲波發(fā)生器所發(fā)出的高頻超聲振蕩信號，通過換能器轉(zhuǎn)換成高頻機振蕩而傳播到介質(zhì)—清洗溶劑中,，利用超聲波在清洗溶劑中的“空化作用”,，使液體流動而產(chǎn)生數(shù)以萬計的小氣泡，這些氣泡在超聲波縱向傳播成的負壓區(qū)形成,、生長,，而在正壓區(qū)迅速破裂，就是在這種被稱為“空化”效應的過程中氣泡破裂產(chǎn)生超過1000個大氣壓的瞬間高壓,，連續(xù)不斷產(chǎn)生的瞬間高壓產(chǎn)生一串小“爆炸”不斷地沖擊被清洗物體的表面,，孔隙、縫道,，使物體表面及縫隙中的污垢迅速剝落,，從而達到被清洗物件凈化的目的。因此利用超聲波清洗質(zhì)量好,、速度快,。對一般常規(guī)清洗方法，可達到清潔度要求,，尤其對幾何形狀比較復雜,，帶有各種小孔，彎孔和盲孔等被清洗物件,，采用超聲波清洗的潔凈效果更為明顯,。
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