低溫等離子廢氣處理設備的技術機理：

等離子體去除惡臭是通過兩個途徑實現(xiàn)的：一個是在高能電子的瞬間是高能量作用下,，打開某些有害氣體分子的化學鍵,，使其直接分解成單質原子或無害分子,；另一個是在大量高能電子、離子,、激發(fā)態(tài)粒子和氧自由基,、氫氧自由基（自由基因帶有不成對電子而具有很強的活性）等作用下的氧化分解成無害產(chǎn)物。主要有下面幾個過程：

1,、在高能電子作用下，強氧化性自由基O,、OH,、OH2的產(chǎn)生；

2,、有機物分子受到高能電子碰撞被激發(fā)，及原子鍵斷裂形成小碎片基團和原子,；

3、O,、OH,、HO2與激發(fā)原子、有機物分子,、廢氣處理公司破碎的基團、其他自由基等發(fā)生一系列反應,，有機物分子最終被氧化降解為CO,、CO2、H2O,。去除率的高低與電子能量和有機物分子結合鍵能的大小有關,。

從除臭機理上分析，主要發(fā)生以下反應：

H2O+O2,、O2-,、O2+——SO3+H2O

NH3+O2、O2-,、O2+——NOx+H2O

H2S去除率可達91.9％,，NH3去除率可達93.4％,，臭氣濃度去除率可達93.6％,。

從上述反應來看，惡臭組分經(jīng)過處理后，轉變?yōu)镹Ox,、SO2,、CO2、H2O等小分子,，在一定的濃度下,，各種反應的轉化率均在95％以上,，而且惡臭濃度較低，因此產(chǎn)物的濃度極低,，均能被周邊的大氣所接受,。