一,、實驗原理：

    金相顯微分析是研究金屬內(nèi)部組織重要的方法之一。用光學(xué)顯微鏡觀察和研究金屬內(nèi)部組織的步驟,，首先是制備所取試樣的表面,，然后選用合適的浸蝕劑試樣表面，并用金相顯微鏡觀察和研究試樣表面組織,。

    試樣表面比較粗糙時,，由于對人射光產(chǎn)生漫反射，無法用顯微鏡觀察其內(nèi)部組織,，因此要對試樣表面加工,，通常采用磨光和拋光的方法從而得到光亮如鏡的試樣表面。這個表面在顯微鏡下只能看到白亮的一片而看不到其組織細(xì)節(jié),，因此必須采用合適的浸蝕劑對試樣的表面進(jìn)行浸蝕,，使試樣表面有選擇性地溶解掉某些部分（如晶界），從而呈現(xiàn)微小的凹凸不平,，這些凹凸不平在光學(xué)顯微鏡的景深范圍內(nèi)可以顯示出式樣的組織形貌,、大小和分布。

二,、 金相式樣的制備方法

金相顯微式樣的制備包括取樣,、鑲嵌、磨制,、拋光,、浸蝕等工序。

1） 取樣  

    式樣的選取應(yīng)根據(jù)研究的目的,，取其具有代表性的部位,。待確定好部位,，就可以把式樣截下,，式樣的尺寸通常采用直徑12～15mm，高12～15mm的圓柱體或邊長12～15mm的方形式樣,。取樣方法可用手鋸,、鋸床切割或錘擊等方法。

2） 鑲嵌
    如式樣尺寸太小,，直接用手來磨制困難時，可把式樣鑲嵌在低熔點合金或塑料中,，以便于式樣的磨制和拋光,。

3） 磨制
    切好或鑲好的式樣在砂輪機(jī)上磨平，尖角要倒圓,。然后用2﹟,、1?﹟和1﹟等粗砂布磨光,，再換400.600.800.1000.1200.1500.2000.2500.3000等金相砂紙逐級細(xì)磨，一直磨到W10砂紙方可進(jìn)行粗拋光和細(xì)拋光,。
    磨制式樣時,，每換一次磨制步驟（即每換一號砂紙）時，式樣磨制方向應(yīng)轉(zhuǎn)90°,。這樣才能看出上次磨痕是否磨去,。式樣在每一號砂布（紙）上磨制時，要沿一個方向磨,，切忌來回磨削,，而且給式樣施加的壓力要適當(dāng)。

4） 拋光
    細(xì)磨的式樣還需進(jìn)行拋光,。拋光的目的是去除細(xì)磨時遺留下來的細(xì)微磨痕而獲得光亮的鏡面。式樣的拋光是在的拋光機(jī)上進(jìn)行的,，轉(zhuǎn)速一般100～150r/min,。拋光時在拋光盤盤面上鋪有絲絨等織物，并不斷滴注拋光液,。拋光液是由àl2O3、Cr2O3或MgO等極細(xì)粒度的磨料加水而形成的懸浮液,，依靠拋光液中極細(xì)的拋光粉末與式樣磨面間產(chǎn)生的相對磨削和滾壓作用來消除磨痕,。拋光時應(yīng)使式樣磨面均勻地壓在旋轉(zhuǎn)的拋光盤上，并沿盤的邊緣到中心不斷作徑向往復(fù)運動,。除機(jī)械拋光方法外，還有電解拋光,、化學(xué)拋光等其他拋光方法,。

5） 浸蝕
    經(jīng)拋光后的式樣還必須經(jīng)過浸蝕后才能在顯微鏡下進(jìn)行觀察。浸蝕主要是依靠浸蝕劑對金屬的溶解或電化學(xué)腐蝕過程,，使金屬式樣表面的晶粒與晶界及各組成相之間呈現(xiàn)輕微的凹凸不平,，在顯微鏡下就可以清楚地觀察到式樣表面，浸蝕時間要適當(dāng),，一般式樣磨面發(fā)暗時就可停止,。如果浸蝕不足重復(fù)浸蝕。浸蝕完畢后立即用清水沖洗,，然后用酒精沖洗,，后用吹風(fēng)機(jī)吹干，式樣即可置于金相顯微鏡上進(jìn)行觀察

三,、金相顯微鏡操作規(guī)程

    金相顯微鏡屬于精密光學(xué)儀器,，為了保證金相顯微鏡系統(tǒng)正常的發(fā)揮功能，特制定本規(guī)程,。
　　金相顯微鏡由專人使用,，專人負(fù)責(zé)日常維護(hù)、保養(yǎng),。任何人未經(jīng)許可,，不得調(diào)試該設(shè)備,。
    金相顯微鏡系統(tǒng)的操作步驟及日常維護(hù),、保養(yǎng)注意事項如下：
一,、顯微鏡部分
1、去掉防塵罩,，打開電源,。
2、將試樣置于載物臺墊片,，調(diào)整粗/微調(diào)旋鈕進(jìn)行調(diào)焦,，直到觀察到的圖像清晰為止。
3,、調(diào)整載物臺位置，找到關(guān)心的視場,，進(jìn)行金相分析,。
二、計算機(jī)及圖像分析系統(tǒng)
將金相顯微鏡上的觀察/照相切換旋鈕調(diào)至PHOT位置,，金相顯微鏡里觀察到的信息便轉(zhuǎn)換到視頻接口和攝像頭,，打開計算機(jī),，啟動圖象分析軟件,，即可觀察到來自金相顯微鏡的實時的圖像,，找到關(guān)心的視場后將其采集,、處理。
三,、日常維護(hù),、保養(yǎng)及注意事項
為保證系統(tǒng)的使用壽命及可靠性，注意以下事項：
1.試驗室應(yīng)具備三防條件：防震（遠(yuǎn)離震源）,、 防潮（使用空調(diào),、干燥器）,、防塵（地面鋪上地板）；電源：220V±10%,，50HZ,；溫度：0°C—40°C。
2.調(diào)焦時注意不要使物鏡碰到試樣,，以免劃傷物鏡,。
3.當(dāng)載物臺墊片圓孔中心的位置遠(yuǎn)離物鏡中心位置時不要切換物鏡，以免劃傷物鏡,。
4.亮度調(diào)整切忌忽大忽小,，也不要過亮，影響燈泡的使用壽命,，同時也有損視力,。
5.所有（功能）切換，動作要輕,，要到位,。
6.關(guān)機(jī)時要將亮度調(diào)到小。
7.非專業(yè)人員不要調(diào)整照明系統(tǒng)（燈絲位置燈）,，以免影響成像質(zhì)量,。
8.更換鹵素?zé)魰r要注意溫，以免灼傷,；注意不要用手直接接觸鹵素?zé)舻牟Ａw,。
9.關(guān)機(jī)不使用時，將物鏡通過調(diào)焦機(jī)構(gòu)調(diào)整到低狀態(tài),。
10.關(guān)機(jī)不使用時,，不要立即該蓋防塵罩，待冷卻后再蓋,，注意防火,。
11.不經(jīng)常使用的光學(xué)部件放置于干燥皿內(nèi)。
12.非專業(yè)人員不要嘗試擦物鏡及其它光學(xué)部件,。目鏡可以用脫脂棉簽蘸1:1比例（*）混合液體甩干后擦拭,，不要用其他液體，以免損傷目鏡,。