原子吸收光譜法(AAS)測樣品空白值高原因有兩大類:
一、留有殘余,,造成記憶效應(yīng),。
1,、常見原因是剛做完標(biāo)準(zhǔn)曲線馬上就測空白試劑,特別是標(biāo)準(zhǔn)曲線濃度較高的情況下,,造成記憶效應(yīng),,空白值過高。
2,、火焰法空白值過高,,進(jìn)純水或空白試劑清洗一段時間再測。
3,、石墨爐法空白值過高,,高溫空燒石墨管1-3次。
4,、因石墨管積碳過多而空白值高,,通過通空氣去除多余積碳,對石墨管壽命有影響,,慎用,。
5、石墨管壽命已到期,,更換管子,。
6、氫化物發(fā)生器石墨爐法空白值過高,,因還原劑(硼氫hua鈉或硼氫hua鉀)配制而引起,,重新配制,還原劑需現(xiàn)配現(xiàn)用,;因石墨管而引起,,高溫空燒管子1-3次;因氫化物發(fā)生器而引起,,調(diào)節(jié)泵速、Ar流量,,檢查通氫化物的進(jìn)樣管是否有液體,,若有則需吹掃干凈。
二,、前處理帶來的污染,。
污染源有三:1、實驗室用水的污染;2,、酸或試劑本底較高,;3、消解過程帶入的污染,。首先判斷是何原因引起的污染,,按照對應(yīng)的方法改進(jìn)。接著仔細(xì)審視整個前處理過程,。對于消解過程帶入的污染可以是很多方面:容器器皿清洗不干凈,、儀器設(shè)備帶入的污染、玻璃容器金屬離子的析出,、通風(fēng)櫥灰塵的掉落,、環(huán)境因素等。這一過程要具體問題具體分析,,如果排除是儀器的原因,,則要在前處理過程的每個步驟尋找原因。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品,。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”,。違反上述聲明者,,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,,目的在于傳遞更多信息,,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任,。其他媒體,、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任,。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。