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TP8000型“高溫氫還原-火焰光度氣相色譜儀”簡介
（測定三氯氫硅中痕量磷儀器）
一、 前言
半導體硅材料中磷含量的高低，直接影響器件的電性能。隨著硅材料研究及生產(chǎn)的不斷提高，對于原材料三氯氫硅中磷的測試靈敏度,、速度,、準確度提出更高要求,。
三氯氫硅中雜質(zhì)磷的分析,，傳統(tǒng)的方法為將雜質(zhì)磷轉(zhuǎn)變成磷鉬雜多酸,，再還原成磷鉬藍進行比色測定。在此基礎上后來有改進,，諸如經(jīng)苯肟酮或硫氰化銨比色測定鉬,，或利用化學光譜法測出鉬量進而間接換算出磷含量；加大取樣量等,。雖然在靈敏度上有一定提高,，但都要經(jīng)過使磷形成磷鉬雜多酸這一過程。為要形成穩(wěn)定的絡合物來分離基本和消除雜質(zhì)干擾,，化學分離手續(xù)相當繁雜,，分析時間長，而且,，測定靈敏度也不能滿足生產(chǎn)上的要求,。
為了提高三氯氫硅中雜質(zhì)磷分析靈敏度和速度，國內(nèi)外相關(guān)科研人員做了大量工作,。例如,，有專家采用氣相色譜法測定了三氯氫硅中以PCL3與POCL3形式存在的磷含量。然而,，三氯氫硅中雜質(zhì)磷還可能以其他形式存在（例如,，PCL5、PSCL3）,，因此,，欲采用氣相色譜法測定總磷含量，首先要保證樣品中以各種形式存在的磷都能從分離柱中流出,，這無疑是一項很艱巨的工作,，至今尚未見到報道。又例如,，有專家采用“ICP—MS”法測定三氯氫硅中痕量雜質(zhì)磷,，測試方法雖然簡捷，遺憾的是,，測定靈敏度下限僅為0.3PPb,，不能滿足多晶硅生產(chǎn)工藝對三氯氫硅中雜質(zhì)磷的分析要求（工藝要求三氯氫硅中雜質(zhì)磷含量應小于0.1PPb）。
二,、 測定三氯氫硅中痕量磷儀器“高溫氫還原—火焰光度氣相色譜儀”,。
針對上述現(xiàn)狀，我公司專家級工程師經(jīng)過多年在硅行業(yè)的豐富經(jīng)驗,，與大量的切合實戰(zhàn)分析,，研制出測定三氯氫硅中痕量磷儀器“高溫氫還原—火焰光度氣相色譜儀”,。進幾年已在國內(nèi)硅行業(yè)多個生產(chǎn)廠家得到應用，反應*,，與價格昂貴的“ICP-MS”法比較有廉價實用,，快速測定，痕量（≤0.06PPb）分析,，耗材低等特性,。對于快速反應指導三氯氫硅生產(chǎn)工藝，更加提純硅產(chǎn)品,，為社會提供更的單晶硅產(chǎn)品,，是我司特別推出此套分析儀器的宗旨，也是您可信賴的合作伙伴,。
TP8000分析儀總磷測定
三氯氫硅———————————→多晶硅————→單晶硅產(chǎn)品
三,、 儀器的特點和指標
1、 所測三氯氫硅中雜質(zhì)磷含量為總磷含量,；
2,、 三氯氫硅中雜質(zhì)磷含量測定下限為0.06PPb；
3,、 測定手續(xù)簡便只需用注射針筒向儀器注入三氯氫硅即可,；
4、 測定周期短,，自注入三氯氫硅到測出磷化氫峰高（或面積）需時20分鐘,；
5、 儀器結(jié)構(gòu)簡潔,、直觀,，便于使用和維修。
儀器選購及售后服務
在你購買儀器前協(xié)助你全面了解儀器的性能,、特點,，儀器選型的全面咨詢服務。在您購買儀器后,，我們可派專業(yè)技術(shù)人員前往您的單位進行儀器的安裝,、啟動、調(diào)試,。定期舉辦培訓班,，長期供應儀器的易損、易耗件,。依國家行業(yè)標準,，儀器實行三包，保質(zhì)期十二個月,，終身維修,，自接到用戶詢問后,，24小時內(nèi)答復，若需到現(xiàn)場,，48小時內(nèi)到位,，做好售后服務。
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