主要功能及特點
Plate PAC (電鍍液電位滴定分析方法集) 收集了目前常用的電鍍液滴定方法,。
Plate PAC 介紹76種物質的分析規(guī)程,。包含樣品量,樣品處理過程,,所采用的滴定劑,、溶劑、電極,、滴定方法以及結果計算等詳細信息,。除了多種金屬電鍍液, Plate PAC 還包含了脫脂池,刻蝕池或酸洗池和陽極化池的分析方法。
可直接將這些方法作為實驗室SOPs(標準操作規(guī)程),,既省時又省錢,。
可通過方法存儲卡、VESUV 3.0軟件或PC Conctrol軟件等簡單的方式將Plate PAC中方法導入Metrohm Titrino和Titrando系列滴定儀,,直接開始測定,。
應用領域
方法列表
按A到Q的順序將76種方法分為5組,包括以下滴定:
A 滴定劑的準備和滴定度的測定
NaOH,,HCl,,碘,硫代硫酸鈉,,EDTA,,AgNO3
B 酸性銅池
銅,硫酸,,氯離子
C 堿性銅池
銅,,游離氰離子,NaOH 和碳酸根
D 鎳池
鎳,,硼酸,,氯離子
E 鉻池/鍍鉻池
鉻(VI), 總鉻和鉻(III), 硫酸根/硫酸, 氯離子,氟離子,,鐵
F 鋅池
鋅,,NaOH和碳酸根,總氰
G 酸性錫池
錫(II), 總錫和錫(IV), 游離硫酸/ 游離氟硼酸, 氯離子
H 堿性錫池
總錫, NaOH和碳酸根
I 銀池
銀,,銅,,碳酸根,游離氰
J 金池
金,,銅,,游離氰
K 鈀池
Pd, 氯離子,亞硝酸根
L 黃銅池
銅,,鋅,,游離氰,NaOH和碳酸根,,亞硫酸鹽,,銨/氨
M 青銅池
銅,錫,,游離氰
N 鉛,,鉛/錫和鎘池
鉛,錫,,Cd,,游離氟硼酸,,NaOH和碳酸根,總氰
O 脫脂池
NaOH/Na2CO3, NaOH/Na3PO4, Na2SiO3/Na3PO4, Na2SiO3/Na3PO4/NaCN
P 酸性刻蝕池或酸洗池
HNO3 或 HCl 或 H2SO4, H3PO4, HF, H2SO4/HNO3/HCl, H2SO4/H3PO4, H2SO4/CrO3, H2SO4/H2O2, HF/HNO3, 重金屬
Q 鋁陽極氧化池(陽極化池)
H2SO4/Al/草酸/氯離子, H2SO4/CrO3/Cl
訂貨信息
6.6044.003
全套 Plate PAC包括一本介紹詳細方法的文件夾,;一張方法存儲卡,;兩張光盤(Metrodoc和Metrodata)。
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