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北京萊伯泰科儀器股份有限...

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ICP-MS|萊伯泰科精彩亮相“2023光刻膠及聚酰亞胺先進技術(shù)和產(chǎn)業(yè)應(yīng)用研討會

閱讀:1491      發(fā)布時間:2023-5-31
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        2023年5 月 26 日,,萊伯泰科受電子化工新材料產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟的邀請,出席江蘇常州“2023•光刻膠及聚酰亞胺先進技術(shù)和產(chǎn)業(yè)應(yīng)用研討會”,,大會上萊伯泰科帶來半導(dǎo)體領(lǐng)域解決方案,,并與行業(yè)內(nèi)各位專家進行熱切討論。

光刻會場 

會議圖片

光刻是半導(dǎo)體制造微圖形工藝的核心,,光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的 35%,。目前國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)仍處于發(fā)展起步階段,高端半導(dǎo)體光刻膠市場仍被日本和美國公司壟斷,,國產(chǎn)替代率較低,。

2021年5月20日,萊伯泰科重磅發(fā)布LabMS 3000電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,,強勢進軍半導(dǎo)體行業(yè),。2023年3月10日,萊伯泰科隆重推出針對于半導(dǎo)體行業(yè)研發(fā)生產(chǎn)的LabMS 5000 ICP-MS/MS電感耦合等離子體質(zhì)譜,,致力于為半導(dǎo)體行業(yè)用戶提供更加精準(zhǔn),、高效的解決方案。

img2 

電感耦合等離子體質(zhì)譜儀LabMS 3000 ICP-MS

img3 

LabMS 5000 電感耦合等離子體串聯(lián)質(zhì)譜儀(ICP-MS/MS)

 

 

萊伯泰科作為主要國產(chǎn)儀器廠商之一,,在分析儀器領(lǐng)域已深耕20年,,始終堅守在推動我國科學(xué)儀器發(fā)展的前線近些年萊伯泰科在質(zhì)譜創(chuàng)新之路的進展加速著國產(chǎn)替代的進程,,以實際行動助力我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)健康穩(wěn)步發(fā)展,,實現(xiàn)高水平科技自立自強。

光刻萊伯泰科展臺2 

萊伯泰科展臺

 

 

產(chǎn)品展示

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