采用BJH(Barrett-Joyner-Halenda)理論進(jìn)行介孔分析,，基于以下三個來自等溫吸附線的假設(shè)： 由于介孔（大孔）中存在毛細(xì)冷凝現(xiàn)象,，導(dǎo)致在一定溫度下吸附質(zhì)的飽和蒸氣壓變低，從而出現(xiàn)吸附質(zhì)的冷凝現(xiàn)象（即毛細(xì)冷凝）,。因此,，BJH方法是基于吸附質(zhì)為液體狀態(tài)下，使用開爾文方程進(jìn)行計算的(見公式 1),。通常情況下,，開爾文半徑（r_c）是小于實際孔徑(r_p) ,因為吸附是從孔表面和吸附質(zhì)間的相互作用開始的，緊接著才是吸附層的形成,。所以,，實際孔半徑是吸附層的厚度（t）加開爾文半徑（r_c）之和 (見公式 2)。而且,，在N₂@77.4 K的吸附等溫線中,，當(dāng)相對壓力P/P₀小于0.42 （對應(yīng)孔半徑小于1.7 nm）時，并不會發(fā)生毛細(xì)冷凝現(xiàn)象,，所以毛細(xì)冷凝理論并不適用于小于1.7nm的孔分析,。

N₂, 77K下的卡爾文公式

BJH 理論: 三個假設(shè)

① 孔形為圓柱形孔

② 接觸角為0⁰的半球形彎月面

③ 吸附層校正(厚度層 t)

圖1顯示了介孔硅材料Develosil100 的77.4 K下的N₂吸附脫附曲線，可以看出當(dāng)P/P₀超過0.8時,，由于毛細(xì)冷凝現(xiàn)象的存在,，吸附曲線陡然上升，并且脫附曲線高于吸附曲線（回滯環(huán),，IV型）,，表明樣品存在介孔。有許多理論解釋回滯環(huán)的產(chǎn)生,。在這個材料中,，孔的形狀為墨水瓶狀，在吸附支線（從a到d）,，吸附從孔的窄端開始,，而在脫附支線，吸附質(zhì)從孔的最寬處開始脫附（從d到g）,， 但是由于瓶頸的存在,，從f到g的脫附是立即完成的。

因此,，等溫吸附線的BJH曲線(圖2) 顯示出Develosil100的中孔總孔容為1 cm³/g, 中孔峰值孔徑為16nm(吸附端),瓶頸處的峰值孔徑為12 nm (脫附端),。另外，圖2中的孔徑分布縱坐標(biāo)具有物理意義,，結(jié)果看起來很不同(圖 3),?？左w積分布對較大孔徑的影響很大，非常適合用來評價吸附劑和吸附過程中的孔體積,。另一方面，面積分布主要體現(xiàn)小孔孔徑,，可用于對比反應(yīng)過程中的活性位面積,，如催化劑。

樣品Devesil100的BET比表面積和結(jié)構(gòu)分析在應(yīng)用文章4（BET比表面評價）和應(yīng)用文章9中介紹（T圖法）,。

The BET specific surface area and structural evaluation of this sample Devesil100 are introduced in Material No.4 (BET specific surface area evaluation) and No.9 (evaluation by t-plot method).