金相試樣研磨之后需要進(jìn)行拋光,，以將試樣上研磨過(guò)程產(chǎn)生的磨痕及變形層去掉，使其成為光滑鏡面,。目前拋光試樣的方法有機(jī)械拋光,、電解拋光、化學(xué)拋光以及復(fù)合拋光等,。
一,、機(jī)械拋光：在專(zhuān)門(mén)的拋光機(jī)上進(jìn)行拋光。機(jī)械拋光主要分為兩個(gè)步驟：粗拋和精拋,。
粗拋：目的是除去磨光的變形層,。
以往粗拋常用的磨料是粒度為10-20μm的α-Al2O3、Cr2O3或Fe2O3,，加水配成懸浮液使用。目前,，人造金剛石磨料已逐漸取代了氧化鋁等磨料,，因其具有以下優(yōu)點(diǎn)：
1)與氧化鋁等相比，粒度小得多的金剛石磨粒,，拋光速率要大得多,，例如4~8μm金剛石磨粒的拋光速率與10~20μm氧化鋁或碳化硅的拋光速率相近；
2)表面變形層較淺,；
3)拋光質(zhì)量好,。
精拋：又稱(chēng)終拋，目的是除去粗拋產(chǎn)生的變形層,，使拋光損傷減少到至低,。常用的精拋磨料為MgO及γ-Al2O3，其中MgO的拋光效果好,，但拋光效率低,，且不易掌握；γ-Al2O3的拋光速率高,，且易于掌握,。
二、電解拋光：利用陽(yáng)極腐蝕法使試樣表面變得平滑光亮的拋光方法,。
電解拋光用不銹鋼作為陰極,，被拋光的試樣作為陽(yáng)極，容器中盛放電解液,，當(dāng)接通電流后,，試樣的金屬離子在溶液中發(fā)生溶解,，在一定電解的條件下，試樣表面微凸部分的溶解比凹陷處來(lái)得快,，從而逐漸使試樣表面有粗糙變平坦光亮,。
優(yōu)缺點(diǎn)：
1：與機(jī)械拋光相比，電解拋光純系電化學(xué)的溶解過(guò)程,，沒(méi)有機(jī)械力的作用,，不引起金屬的表面變形。
2：對(duì)于硬度低的單相合金以及一般機(jī)械拋光難于做到的鋁合金,、鎂合金,、銅合金、鈦合金,、不銹鋼等宜采用此法,。
3：電解拋光對(duì)試樣磨光程度要求低(一般用800號(hào)水砂紙磨平即可)，速度快,，效率高,。
4：電解拋光對(duì)于材料化學(xué)成分的不均勻性，顯微偏析特別敏感,，非金屬夾雜物處會(huì)被劇烈地腐蝕,，因此不適用于偏析嚴(yán)重的金屬材料及作夾雜物檢驗(yàn)的金相試樣。
注意事項(xiàng)：電解拋光必須選擇合適的電壓,，控制好電流密度,，過(guò)低和過(guò)高電壓都不能達(dá)到正常拋光的目的。
三,、化學(xué)拋光：利用化學(xué)溶解作用得到光滑的拋光表面,。
將試樣浸在化學(xué)拋光液中，進(jìn)行適當(dāng)?shù)臄噭?dòng)或用棉花擦試,，一段時(shí)間之后即可得到光亮的表面,。化學(xué)拋光兼有化學(xué)腐蝕的作用,，能顯示金相組織,，拋光后可直接在顯微鏡下觀察。
化學(xué)拋光操作簡(jiǎn)單,，成本低廉,，不需要特別的儀器設(shè)備，對(duì)原來(lái)試樣表面的光潔度要求也不高,。
化學(xué)拋光液的成分隨拋光材料的不同而不同,。一般為混合酸液。常用的酸類(lèi)有：正磷酸,、鉻酸,、硫酸,、醋酸、硝酸及氫酸,；為了增加金屬表面的活性以利于化學(xué)拋光的進(jìn)行,，還加入一定量的過(guò)氧化氫?；瘜W(xué)拋光液經(jīng)使用后,，溶液內(nèi)金屬離子增多，拋光作用減弱,，需經(jīng)常更換,。
