在半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)過程中,，許多流程中都要用到各種酸類試劑。其中重要的是鹽酸（HCl）,，其主要用途是與過氧化氫和水配制成混合物用來清潔硅晶片的表面,。由于半導(dǎo)體設(shè)備尺寸不斷縮小，其生產(chǎn)中使用的試劑純度變得越來越重要,，這是因?yàn)榧词故巧倭侩s質(zhì)也會導(dǎo)致設(shè)備的失效,。SEMI 標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的是金屬雜質(zhì)的大濃度（SEMI 標(biāo)準(zhǔn)C27-07081 用于鹽酸），而半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)商對雜質(zhì)濃度的要求往往更加嚴(yán)格,，這樣就給試劑供應(yīng)商帶來了更大的挑戰(zhàn),。其結(jié)果是，分析儀器也必須能夠?qū)Ω蜐舛鹊碾s質(zhì)成分檢測,。
電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）具備測定納克/ 升（ng/L,，PPT）甚至更低濃度元素含量的能力,，是測量痕量及超痕量金屬的技術(shù)。然而,，常規(guī)的測定條件下,，氬、氧,、氫離子會與酸基體相結(jié)合,，對待測元素產(chǎn)生多原子離子干擾。
珀金埃爾默公司的NexION® 2000 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）可提供多種*消除多原子離子干擾的方式,。具有三路氣體通道的通用池在反應(yīng)模式下具備大的做樣靈活性,。由于通用池是由四極桿組成的，具備四極桿的所有功能,，包括通過調(diào)整四極桿的“q”參數(shù)控制通用池中的化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行,。這一優(yōu)勢使得在池內(nèi)使用高反應(yīng)性氣體成為可能，這大大提高了干擾去除的能力,。在三路氣體通道可用的情況下,，三種不同的氣體可以在同一次進(jìn)樣中自由切換，得以選擇出針對某一特定干擾消除的*反應(yīng)氣體,。在鹽酸分析中,，除去氯的干擾是至關(guān)重要的，目前有效的反應(yīng)氣是100% 高純氨氣和100% 高純氧氣,。
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