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SEMICON CHINA 2021,,帶你領(lǐng)略半導(dǎo)體全新解決方案

閱讀:1127      發(fā)布時間:2021-3-25
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展會邀請|速來圍觀SEMICON CHINA 2021,,賽默飛帶你領(lǐng)略半導(dǎo)體全新解決方案

SEMICON CHINA

SEMICON CHINA 2021將于3月17日-19日上海新guo際博覽中心如期舉行。作為中國的半導(dǎo)體行業(yè)盛事,,囊括當(dāng)今世界上半導(dǎo)體制造領(lǐng)域主要的設(shè)備及材料廠商,該展會將為業(yè)內(nèi)人士提供高效交流,、洞悉行業(yè)動態(tài)的有效平臺,。

在此,賽默飛世爾科技誠邀您蒞臨我們的展位(展位號:N5135),,觀摩我們的指尖實驗室,,與我們的技術(shù)專家共同探討失效分析解決方案。我們將展示針對半導(dǎo)體制造商和電子行業(yè)的先分析流程,,助您加快產(chǎn)品缺陷識別和研發(fā)進(jìn)程,,實現(xiàn)過程監(jiān)控、良率提升,,及時搶占市場,!

 

賽默飛半導(dǎo)體雜質(zhì)檢測

quan方位解決方案

 

 

Dionex ICS-6000 HPIC高壓離子色譜系統(tǒng)

 

廣泛應(yīng)用于離線和在線監(jiān)控fab AMC,超純水中陰,、陽離子的監(jiān)控以及高純試劑(酸,、堿和有機溶劑)中陰、陽離子分析。通過zhuan利的在線電解淋洗液發(fā)生器實現(xiàn)無需手動配置淋洗液,,實現(xiàn)操作更簡單,,測試結(jié)果更穩(wěn)定。

 

iCAP™ TQ ICP-MS

 

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)金屬離子痕量分析檢測,。標(biāo)配4路碰撞反應(yīng)氣體,,*消除多原子離子干擾;標(biāo)配有機加氧裝置,,可直接分析半導(dǎo)體行業(yè)的有機試劑樣品,。開放的硬件設(shè)計,使得ICPMS操作更簡單,,維護(hù)更方便,。

 

Element XR HR-ICP-MS

高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

 

高分辨率可達(dá)10000,可區(qū)分質(zhì)量數(shù)小于0.01 amu的質(zhì)譜干擾,,真正實現(xiàn)無干擾分析,,并減少復(fù)雜的樣品制備和方法開發(fā)過程。應(yīng)用:高純試劑,、高純材料,、高純氣體中痕量元素準(zhǔn)確定量。

<<左右滑動查看更多儀器>>

 

 

Element GD Plus GD-MS

輝光放電質(zhì)譜儀

 

高純固體樣品直接分析,,*減少樣品處理步驟,,降低沾污風(fēng)險。

 

熱門應(yīng)用:

 

賽默飛ELEMENT GD Plus GD-MS檢測高純Si中的Fe,、Cu,、Ti的深度分布

 

Fe、Cu,、Ti(<10 ppbw)是對太陽能電池性能損害最大的金屬雜質(zhì):

Fe,、Cu在Si中會快速擴(kuò)散,屬于間隙雜質(zhì),;

Ti擴(kuò)散速度慢,,會占據(jù)Si晶格的取代位點(類似B、P摻雜元素),。

賽默飛ELEMENT GD Plus GD-MS半導(dǎo)體檢測高純硅,,高純碳化硅,砷化鎵等,,雜質(zhì)含量的檢出限可達(dá)到ppb及ppb以下,。高純靶材中痕量雜質(zhì)的檢測及純度鑒定,如銅,,鈦,,鋁,,鉬及ITO等靶材,可實現(xiàn)6N+純度的鑒定,。高純石墨及石墨粉的雜質(zhì)含量檢測及純度鑒定,,可實現(xiàn)6N+純度的鑒定。

 

提前注冊享好禮

現(xiàn)在掃描下方二維碼,,或者點擊閱讀原文,,在線填寫注冊表單,3月17日-19日蒞臨賽默飛展臺,,即可領(lǐng)取一個32G高速移動U盤?,F(xiàn)場掃碼登記,更有機會贏取無線充電器,!

 

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