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低溫恒溫水槽的應(yīng)用范圍
閱讀：1538 發(fā)布時間：2010-9-6
低溫恒溫水槽對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī),、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置,、離子鍍裝置,、蝕刻裝置、單晶片處理裝置,、切片機(jī),、包裝機(jī),、顯影劑的溫度管理,、露光裝置,、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工,、熔接機(jī)的發(fā)熱部分,、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置,、二氧化碳激光加工機(jī)等,。
低溫恒溫水槽廣泛用于石油、化工,、電子儀表,、物理、化學(xué),、生物工程,、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學(xué),、輕工食品,、物性測試及化學(xué)分析等研究部門，高等院校,，企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門,，為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源,，對試驗(yàn)樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進(jìn)行恒定溫度試驗(yàn)或測試,，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。