一，高頻超聲清洗

    對(duì)于像硅片表面小至零點(diǎn)幾微米的超微污染粒子,，常規(guī)的超聲波清洗器無(wú)能為力,，即使增加功率密度也無(wú)濟(jì)于事。近來(lái)發(fā)展了一種兆赫茲級(jí)的高頻超聲清洗技術(shù),，由于頻率高,，空化效應(yīng)已不起作用，因此清洗的關(guān)鍵不是氣泡,，是高頻壓力波的擦洗作用,，其對(duì)污物的去除率接近。高頻清洗近來(lái)發(fā)展較快,，主要用于超大規(guī)模集成電路芯片的污物清洗,，以及硅晶片、陶瓷,。光掩膜等特種污物的清洗,。

二，聚焦式清洗

   對(duì)于想紡織行業(yè)的噴絲板,、過(guò)濾器之類(lèi)微孔物件的清洗,，常規(guī)的超聲清洗效果十分不理想，聲強(qiáng)達(dá)不到要求,，而采用機(jī)械掃描聚焦式超聲清洗,，噴絲板微孔中的污物脫離則十分明顯。聚焦式清洗要求達(dá)到高的聲強(qiáng),，目前選用的頻率以低頻為主,，常用20KHZ和15KHZ兩種頻率，個(gè)別的頻率也有28KHZ的,，其電功率在連續(xù)波情況下一般為500~700w,，間隙脈沖工作狀態(tài)下，功率可高一些,。

三,，多頻清洗

    即在一只清洗槽中，按裝有兩種或三種以上不同頻率的換能器,，由多只發(fā)生器分別推動(dòng)各自頻率的換能器,。我們知道,，清洗器工作頻率高時(shí)，在液體中空化輕度底而空化密度大,，而工作頻率底時(shí)則相反,。低頻超聲波的強(qiáng)度高,，對(duì)物體表面清洗有利,，高頻超聲波空化密度高，沖擊波能穿達(dá)凹槽,、細(xì)縫,、深孔等細(xì)微結(jié)構(gòu)。同時(shí)缸中有多種頻率的超聲波,，也克服了單頻清洗駐波場(chǎng)造成的清洗不均勻問(wèn)題,。

四，掃頻和跳頻清洗

    掃頻和跳頻清洗都是為了改善槽中的聲場(chǎng)結(jié)構(gòu),，前者解決了槽中的不均勻駐波場(chǎng),，是清洗均勻。而跳頻和多頻一樣兼顧到高低頻清洗,，不同的是跳頻用的是一個(gè)換能器和一個(gè)發(fā)生器,，其換能器本身有兩個(gè)諧振頻率，在諧振點(diǎn)帶寬內(nèi)作連續(xù)的頻率變化,，然后跳到另一帶寬內(nèi)進(jìn)行掃頻清洗,，是高低頻交替進(jìn)行清洗。