OTSUKA/日本大塚電子從其創(chuàng)立之初就以光散射技術(shù)和分離技術(shù)為基礎(chǔ),，這些技術(shù)不僅是公司的技術(shù)根源，也是新材料分析的核心技術(shù)并以這些技術(shù)開發(fā),、生產(chǎn)和銷售好的產(chǎn)品,。利用光散射技術(shù)的產(chǎn)品是大塚電子歷史最悠久的產(chǎn)品系列之一。在許多大學(xué),、機(jī)構(gòu)和企業(yè)中,，做為功能材料和新材料物性評(píng)估測(cè)量設(shè)備被高度評(píng)價(jià)。在接受各方面的建議和幫助下,，不斷開發(fā)絕對(duì)分子量測(cè)定,、微粒子粒徑測(cè)定和電位測(cè)定設(shè)備，并在各應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)行改進(jìn),。同時(shí),，從基礎(chǔ)研究到質(zhì)量控制的用途不斷擴(kuò)大，在這一領(lǐng)域已經(jīng)成為日本好的國(guó)產(chǎn)制造商,，獲得了高的信任,。

利用光散射作為新材料分析的核心技術(shù)，并將其應(yīng)用于納米技術(shù)領(lǐng)域的物性測(cè)量,。以粒子大小,、電位和分子量的測(cè)量方法作為基準(zhǔn)，拓展新材料,、生命科學(xué),、高分子化學(xué)，以及半導(dǎo)體和醫(yī)藥等領(lǐng)域的應(yīng)用,。

Otsuka大塚膜厚儀● 可攜帶至現(xiàn)場(chǎng)的手持式

具有形狀的樣品也可非破壞的測(cè)量
● 可測(cè)量0.1μm單位
● 不論基材材質(zhì),、可測(cè)量其鍍膜

● 可測(cè)量0.1μm單位

Otsuka大塚膜厚儀● 具有形狀的樣品也可非破壞的測(cè)量

● 不論基材材質(zhì)、可測(cè)量其鍍膜

各類日系工業(yè)品:,SSD西西蒂(離子風(fēng)扇),、AND愛安得（電子天平）,、SAN-EI三英(點(diǎn)膠閥） HOYA光源,KURABO脫泡機(jī),USHIO牛尾照度計(jì),Tsubosaka壺坂電機(jī),IMV愛睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機(jī),lambda拉姆達(dá)膜厚儀,MUSASHI武藏,SAKURAI櫻井,aitec艾泰克,otsuka大塚（膜厚儀,、粒度儀）,Hitachi日立（掃描電鏡）,MIKASA米卡薩（旋涂設(shè)備、顯影）,、POLARION普拉瑞,、AITEC艾泰克（檢查光源）、Iwasaki巖崎,、OTSUKA大塚電子（光學(xué)膜厚儀）,、KOSAKA小坂（臺(tái)階儀）、HORIBA堀場(chǎng)儀器（分析儀）,、SIBATA柴田科學(xué)（環(huán)境測(cè)定）,、TORAY東麗濃度儀（氧氣分析儀）、yamada山田鹵素強(qiáng)光燈,、CEDAR思達(dá)