中村供貨：日本USHIO牛尾投影式光刻機(jī)UX-4440SC

中村供貨：日本USHIO牛尾投影式光刻機(jī)UX-4440SC

高解析度：采用專業(yè)開發(fā)的高輸出燈以及光學(xué)技術(shù)設(shè)計(jì)的投影鏡片,，能夠?qū)崿F(xiàn)高效率的高解析度曝光,，可滿足精細(xì)圖案的光刻需求。

大口徑投影鏡片：配備大口徑投影鏡片,，大幅提高良品率,，并達(dá)到高產(chǎn)能（Throughput）。

深焦點(diǎn)深度：焦點(diǎn)深度較深,，厚膜光阻與變形膠卷均能適用,，也可對(duì)非平面晶圓進(jìn)行適當(dāng)曝光，有助于提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品良率,。

自動(dòng)對(duì)焦機(jī)能：具備自動(dòng)對(duì)焦功能,，可因應(yīng)膠帶伸縮等情況，達(dá)到高重疊度，保證圖案對(duì)準(zhǔn)精度,。

適用多種基板和膠卷：適用于多種類型的基板,，如玻璃基板、陶瓷基板,、印刷電路板等,，也能處理寬幅及薄型膠卷，膠卷寬度最大可達(dá) 165mm,，厚度為 25μm（PI）,。

高精度定位：采用TTL 非曝光波長(zhǎng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，通過(guò)圖像處理分別檢測(cè)并固定掩模和工件的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在 xy 坐標(biāo)軸上,，即使是整體涂鉻的小掩模,，也能輕易識(shí)別工作記號(hào),，并且能通過(guò)選擇照明方式和波長(zhǎng)提高低對(duì)比度標(biāo)記的可見度,，還能自動(dòng)檢測(cè)基板伸縮導(dǎo)致的圖案變化并調(diào)整投影倍率，最大調(diào)整范圍為 ±0.1%,，在沒有特定對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記時(shí),，也可通過(guò)圖像識(shí)別對(duì)各種布線圖案進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)，另外還有多種對(duì)準(zhǔn)算法可供選擇以適應(yīng)不同類型的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,。

掩模損傷?。和队捌毓夥绞綗o(wú)需掩模與工件接觸，可避免掩模損傷,，同時(shí),，自動(dòng)掩模傳輸功能有助于減少因人為失誤導(dǎo)致的掩模損壞或工作類型錯(cuò)誤，并且能夠在掩模盒中移動(dòng)和安裝掩模,，防止顆粒附著,。

高均勻性照明：照明光學(xué)系統(tǒng)能有效集中光源發(fā)出的光，以高度均勻,、高平行的方式照射掩模,，通過(guò)在鏡面上實(shí)施特殊涂裝，可選擇曝光波長(zhǎng)并阻隔熱線,。

多種曝光方式支持：有多種高精度傳輸系統(tǒng)可適應(yīng)不同工件,，如硅晶圓、柔性基板和印刷電路板等,，還具備可進(jìn)行批量曝光的大面積曝光場(chǎng)以及適用于更大工作區(qū)域的步進(jìn) - 重復(fù)曝光臺(tái),，以支持各種曝光需求，實(shí)現(xiàn)高效穩(wěn)定的處理,。

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