日本SEN日森真空清洗設(shè)備PL1-1107A技術(shù)參數(shù)真空度：可達到 0~0.001Torr,，能有效營造真空環(huán)境,，為清洗過程提供穩(wěn)定的基礎(chǔ)條件，確保清洗效果,。

紫外光波長：可同時發(fā)射 185nm 和 254nm 的紫外光,，利用這兩種波長紫外光的特性進行光分解和光敏氧化反應(yīng)，實現(xiàn)高效清洗和表面處理,。

照射尺寸：照射尺寸為 300×400mm,，可滿足一定尺寸的工件清洗需求，能夠用作生產(chǎn)機器,，適用于批量生產(chǎn)中的表面處理,。

日本SEN日森真空清洗設(shè)備工作原理：與其他 SEN 日森的 UV 清洗設(shè)備類似，該設(shè)備利用 185nm 波長紫外光將空氣中的氧氣分解成臭氧,，254nm 波長的紫外光將臭氧分解成氧氣和活性氧,。活性氧具有強烈的氧化作用,，與工件表面的有機物污染物發(fā)生氧化反應(yīng),，使其分解成揮發(fā)性氣體逸出，從而達到清洗和表面處理的目的,。

應(yīng)用場景光學(xué)領(lǐng)域：可用于透鏡和棱鏡的清潔和表面改性,，去除表面的油污、灰塵,、指紋等污染物,，提高光學(xué)元件的透光率和成像質(zhì)量，改善表面的光學(xué)性能,。

電子行業(yè)：對各種基板材料進行預(yù)處理,，如半導(dǎo)體硅片、印制電路板等,，去除表面的有機物雜質(zhì),，提高基板表面的清潔度和潤濕性，有利于后續(xù)的光刻,、鍍膜,、焊接等工藝的進行，提高產(chǎn)品的良品率和可靠性,。

材料處理：能對金屬和玻璃等材料進行表面處理,，改善表面潤濕性，提高材料對粘合劑、油漆和涂料的附著力,，增強材料的表面性能和使用壽命,。