日本SEN日森：光學(xué)表面處理設(shè)備 SSP-48

日本SEN日森：光學(xué)表面處理設(shè)備 SSP-48

工作原理

光分解作用：可同時發(fā)射波長 254nm 和 185nm 的紫外光,，這兩種波長的光子能量能夠直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵,，使有機物分子活化，分解成離子,、游離態(tài)原子,、受激分子等。

光敏氧化作用：185nm 波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O?）分解成臭氧（O?）,；254nm 波長的紫外光的光能量能將 O?分解成 O?和活性氧（O）,。活性氧原子（O）有強烈的氧化作用,，與活化了的有機物分子發(fā)生氧化反應(yīng),，生成揮發(fā)性氣體（如 CO?、CO,、H?O,、NO 等）逸出物體表面，從而清除粘附在物體表面上的有機污染物,。

應(yīng)用場景

電子行業(yè)：可用于液晶顯示器件,、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路,、高精度印制電路板等的表面清洗,，去除光刻膠、油污,、指紋等污染物,，提高后續(xù)工藝的良品率和可靠性。

光學(xué)行業(yè)：能對光學(xué)器件,、石英晶體等進行清洗,，去除表面的灰塵、油污和有機雜質(zhì),，保證光學(xué)性能和成像質(zhì)量,。

材料處理領(lǐng)域：用于各種基材的預(yù)處理，如金屬和玻璃,，可改善表面潤濕性,，提高對粘合劑、油漆和涂料的附著力,。

其他領(lǐng)域：在密封技術(shù),、帶氧化膜的金屬材料處理等方面也有應(yīng)用，有助于提高材料的表面性能和使用壽命,。

高效的清洗能力：像其他 SEN 日森光學(xué)表面處理設(shè)備一樣,，SSP-48 或許能發(fā)射特定波長的紫外線，利用紫外線的光分解和光敏氧化作用,，快速有效地去除光學(xué)表面的有機物污染物,，如指紋、油污,、光刻膠殘留等，使光學(xué)表面達到較高的清潔度,。

精準的處理效果：可能配備了高精度的光學(xué)系統(tǒng)和控制系統(tǒng),，能夠精確控制紫外線的照射角度、強度和時間,，確保在處理光學(xué)表面時,，不會對光學(xué)元件的性能和精度造成影響，可滿足不同光學(xué)元件的表面處理需求,，如透鏡,、棱鏡、反射鏡等,。

良好的穩(wěn)定性：SEN 日森作為專業(yè)的設(shè)備制造商,，其產(chǎn)品通常具有較好的穩(wěn)定性和可靠性。SSP-48 可能采用了優(yōu)質(zhì)的材料和優(yōu)良的制造工藝，在長時間的運行過程中能夠保持穩(wěn)定的性能,，減少設(shè)備故障和維護成本,。

靈活的操作方式：或許具備多種操作模式和參數(shù)設(shè)置選項，用戶可以根據(jù)不同的光學(xué)表面處理要求,，靈活調(diào)整設(shè)備的工作參數(shù),，如照射時間、功率等,，以達到最佳的處理效果,。同時，可能還具有友好的人機界面,，方便操作人員進行操作和監(jiān)控,。

可能的應(yīng)用領(lǐng)域

光學(xué)鏡片制造：在光學(xué)鏡片的生產(chǎn)過程中，用于鏡片表面的清洗和預(yù)處理,，去除鏡片表面的雜質(zhì)和污染物,，提高鏡片的透光率和成像質(zhì)量，為后續(xù)的鍍膜等工藝提供良好的表面基礎(chǔ),。

光學(xué)儀器生產(chǎn)：可用于顯微鏡,、望遠鏡、相機鏡頭等光學(xué)儀器的光學(xué)元件表面處理,，確保光學(xué)元件的表面質(zhì)量,，提升光學(xué)儀器的性能和可靠性。

光通信行業(yè)：對光通信領(lǐng)域中的光纖連接器,、光模塊等光學(xué)部件進行表面處理,，去除表面的灰塵和油污，改善表面的光潔度,，提高光信號的傳輸效率和穩(wěn)定性,。

半導(dǎo)體制造：在半導(dǎo)體制造工藝中，用于光刻環(huán)節(jié)中光學(xué)掩模板等部件的表面清洗,，保證光刻精度,，提高半導(dǎo)體芯片的制造良率。