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39次KASHIYAMA日本樫山真空泵MU100XE的特點(diǎn)
無(wú)油潔凈:采用無(wú)油干式設(shè)計(jì),,無(wú)需油封,,避免了油蒸汽對(duì)環(huán)境和工藝的污染,特別適合在對(duì)潔凈度要求的潔凈室環(huán)境以及敏感工藝中使用,,如半導(dǎo)體制造、液晶顯示器生產(chǎn),、LED 制造和光伏產(chǎn)業(yè)等,。
高抽速、低能耗:運(yùn)用優(yōu)化的 Roots 轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu),,能提供高達(dá) 1660L/min 的穩(wěn)定抽速,,可滿足中高負(fù)載的真空需求。同時(shí)配備低功耗電機(jī),,運(yùn)行能效比優(yōu)于同類產(chǎn)品,,功率約 0.25kW,在實(shí)現(xiàn)高效抽氣的同時(shí)降低了能耗,。
結(jié)構(gòu)緊湊:尺寸為 450×230×275mm,,體積小巧,重量約 60kg,占地面積小,,便于集成到空間受限的自動(dòng)化設(shè)備或成套系統(tǒng)中,,適合設(shè)備集成和改造項(xiàng)目。
維護(hù)便捷:部件壽命長(zhǎng),,維護(hù)周期長(zhǎng),,且采用易于維護(hù)的設(shè)計(jì),降低了維護(hù)成本和停機(jī)時(shí)間,,能有效減少運(yùn)營(yíng)成本,。
適配性強(qiáng):可兼容多種工藝氣體環(huán)境,適用于化學(xué)氣相沉積(CVD),、物理氣相沉積(PVD),、刻蝕、封裝等多種半導(dǎo)體及相關(guān)行業(yè)的工藝流程,,具有很強(qiáng)的通用性和適應(yīng)性,。
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