HydroFORM掃查器

相控陣腐蝕成像探頭優(yōu)勢特性

•局部水浸技術 •耦合效果得到優(yōu)化,，可以檢測粗糙的表面 •大面積覆蓋 •避免了楔塊反射 •方便的表面回波同步,，用于外壁和內(nèi)壁腐蝕的監(jiān)測

典型應用

I4探頭

相控陣腐蝕成像探頭應用

•可以對中等大小及大面積區(qū)域進行手動或自動腐蝕檢測，完成對剩余壁厚或內(nèi)部腐蝕材料的測量

雙晶線性陣列（DLA）腐蝕探頭

優(yōu)勢特性

•一發(fā)一收技術 •極大地減少了表面回波,，從而優(yōu)化了表面分辨率 •可拆裝式弧面延遲塊 •內(nèi)置灌溉 •環(huán)部件可調(diào)節(jié),，增強了穩(wěn)定性和耐磨性 •與雙晶UT技術相比，DLA具有更高的探出率,、更好的成像效果,、更大的覆蓋范圍，以及增強的數(shù)據(jù)點密度

典型應用

REX1探頭 •可以對較小及中等大小的區(qū)域進行手動或自動檢測,，完成對剩余壁厚或內(nèi)部腐蝕材料的測量

ULT1探頭 •可以對較小及中等大小的區(qū)域進行手動檢測,，完成對表面溫度高達150 °C工件的剩余壁厚或內(nèi)部腐蝕區(qū)域壁厚的測量。

奧氏體,、鎳及其它粗晶合金