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日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀-成都藤田科技提供
產品信息
特殊長度
● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度
● 使用反射光譜分析薄膜厚度
● 實現非接觸,、非破壞的高精度測量，同時體積小,、價格低
● 簡單的條件設置和測量操作,！任何人都可以輕松測量薄膜厚度
● 通過峰谷法、頻率分析法,、非線性最小二乘法,、優(yōu)化法等,，可以進行多種膜厚測量。
● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數分析（n：折射率,，k：消光計數）,。
測量項目
反射率測量
膜厚分析（10層）
光學常數分析（n：折射率，k：消光計數）
測量對象
功能膜,、塑料
透明導電膜（ITO,、銀納米線）、相位差膜,、偏光膜,、AR膜、PET,、PEN,、TAC、PP,、PC,、PE、PVA,、粘合劑,、膠粘劑、保護膜,、硬涂層,、防指紋， 等等,。
半導體
化合物半導體,、Si、氧化膜,、氮化膜,、Resist、SiC,、GaAs,、GaN、InP,、InGaAs,、SOI、藍寶石等,。
表面處理
DLC涂層,、防銹劑、防霧劑等。
光學材料
濾光片,、增透膜等,。
FPD
LCD（CF、ITO,、LC,、PI）、OLED（有機膜,、封裝材料）等
其他
HDD,、磁帶、建筑材料等
測量原理
大冢電子利用光學干涉儀和自有的高精度分光光度計,，實現非接觸、無損,、高速,、高精度的薄膜厚度測量。光學干涉測量法是一種使用分光光度計的光學系統(tǒng)獲得的反射率來確定光學膜厚的方法,，如圖 2 所示,。以涂在金屬基板上的薄膜為例，如圖1所示,，從目標樣品上方入射的光被薄膜表面（R1）反射,。此外，穿過薄膜的光在基板（金屬）和薄膜界面（R2）處被反射,。測量此時由于光程差引起的相移所引起的光學干涉現象,，并根據得到的反射光譜和折射率計算膜厚的方法稱為光學干涉法。分析方法有四種：峰谷法,、頻率分析法,、非線性最小二乘法和優(yōu)化法。
規(guī)格
規(guī)格
| 類型 | 薄膜型 | 標準型 |
| 測量波長范圍 | 300-800nm | 450-780nm |
| 測量膜厚范圍 （SiO 2換算） | 3nm-35μm | 10nm-35μm |
| 光斑直徑 | φ3mm / φ1.2mm | |
| 樣本量 | φ200×5（高）mm | |
| 測量時間 | 0.1-10s內 | |
| 電源 | AC100V ± 10% 300VA | |
| 尺寸,、重量 | 280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米,，24 公斤 | |
| 其他 | 參考板，配方創(chuàng)建服務 |
設備配置
光學家譜
軟件畫面
日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀-成都藤田科技提供
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