“第十一屆世界制藥原料中國展”（CPhI, ICSE & BioPh China 2011）暨“2011世界制藥機(jī)械、包裝設(shè)備與材料中國展”（P-MEC China 2011）將于2011年6月21日至23日在上海新博覽中心舉辦
公司展位號E1C05,，屆時將攜干濕二合一激光粒度儀HELOS/OASIS（測試范圍0.1-3500μm）,、動態(tài)粒度粒形分析儀QICPIC（測試范圍1-20000μm）、納米激光粒度儀NANOPHOX（測試范圍1-10000nm）,、超聲衰減粒度儀OPUS（0.01-3000μm）,，并有德國及中國工程師在現(xiàn)場為您做的介紹與解答。
德國新帕泰克的干濕二合一粒度儀HELOS/OASIS,，結(jié)合干法與濕法測試的雙重優(yōu)點(diǎn),，分散效果好、測試速度快,、性與精度高,。
動態(tài)粒度粒形儀QICPIC在分析粒度分布信息的基礎(chǔ)上，提供粒形信息,，為以顆粒形態(tài)為表征的行業(yè)與分析研究院提供了包括球形度,、長寬比、纖維長度等更多參數(shù)的信息,。
納米粒度儀NANOPHOX使用PCCS的原理,，消除多重散射的影響，測試濃度高,，性好,，同時提供穩(wěn)定性分析，是分析納米粉體的*選擇,。
誠摯歡迎各界人士的蒞臨展位交流,！
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