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供應(yīng)簡(jiǎn)介

進(jìn)口HORIBA堀場(chǎng)等離子發(fā)射控制器RU-1000
使用反應(yīng)濺射將觸摸面板和玻璃基板的薄膜沉積在基材上。反應(yīng)性濺射是在真空中使濺射粒子與氧或氮發(fā)生化學(xué)反應(yīng)來(lái)成膜的方法,，但定量供給反應(yīng)氣體的方法會(huì)減慢成膜速度,，難以實(shí)用化。然而,，已知存在一種不穩(wěn)定的過(guò)渡模式,，其中沉積速率在沉積速率快??的反應(yīng)模式和金屬模式之間變化很大，并且可以通過(guò)基于等離子體控制反應(yīng)氣體來(lái)維持過(guò)渡區(qū)域排放強(qiáng)度,。

詳細(xì)介紹

進(jìn)口HORIBA堀場(chǎng)等離子發(fā)射控制器RU-1000

等離子發(fā)射控制器RU-1000使用傳感器檢測(cè)等離子發(fā)射強(qiáng)度,，并使用算法向內(nèi)部制造的高速響應(yīng)質(zhì)量流量控制器指示適當(dāng)?shù)姆磻?yīng)氣體流量，從而使成膜速度接近于金屬模式并實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的成膜,。

等離子發(fā)射控制器RU-1000用于提高沉積速度,。通過(guò)控制過(guò)渡區(qū)的反應(yīng)氣體，與定量供給反應(yīng)氣體的方法相比,，成膜速度可以提高數(shù)倍,。

通過(guò)將多個(gè)等離子體發(fā)射強(qiáng)度傳感器安裝到寬幅基板上并利用這些信號(hào)高速控制反應(yīng)氣體，可以實(shí)現(xiàn)極其均勻的成膜,。

等離子發(fā)射控制器RU-1000是一款售后服務(wù)優(yōu)良的國(guó)產(chǎn)產(chǎn)品,，由專門(mén)從事光學(xué)技術(shù)的Horiba和擁有優(yōu)秀氣體控制技術(shù)的Horiba Estec生產(chǎn),。

制造商特點(diǎn)

在生產(chǎn)等離子體發(fā)射控制器時(shí)，HORIBA, Ltd.負(fù)責(zé)測(cè)量等離子體發(fā)射強(qiáng)度的基本光學(xué)設(shè)計(jì),，HORIBA STEC, Ltd.負(fù)責(zé)控制反應(yīng)氣體流量的功能部分的設(shè)計(jì),。高速。堀場(chǎng)制作所是汽車(chē)尾氣分析儀,、薄膜測(cè)量,、理化分析領(lǐng)域的頂尖公司，而這些分析技術(shù)的基本原理是光學(xué)測(cè)量技術(shù),，因此等離子體發(fā)光測(cè)量是由日本堀場(chǎng)制作所進(jìn)行的,。該領(lǐng)域的頂尖公司。另一方面,，反應(yīng)氣體流量的控制部分由全球半導(dǎo)體制造設(shè)備中質(zhì)量流量控制器（氣體流量控制裝置）的制造商負(fù)責(zé),。等離子發(fā)射控制器 RU-1000 匯集了堀場(chǎng)集團(tuán)的最佳技術(shù),，迎接將技術(shù)推向更高高度的挑戰(zhàn),。

對(duì)于要求演示的客戶

在本公司，我們出租控制器和等離子測(cè)量裝置等系統(tǒng),，以便與客戶的系統(tǒng)相匹配,，讓客戶放心使用。

對(duì)于給您帶來(lái)的不便,，我們深表歉意,，但請(qǐng)單擊下面的圖標(biāo)并輸入所需的信息。

我們的代表將確認(rèn)您所需的日期和所需的系統(tǒng),。

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