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PSEL勞厄衍射系統(tǒng)

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更新時間：2025-05-11 21:00:21

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產(chǎn)品分類品牌分類

電鏡樣品制備: 離子研磨儀鍍膜儀熱蒸發(fā)鍍碳儀離子濺射儀精密離子減薄儀凹坑研磨儀研磨拋光機振動拋光機

薄膜,、塊體樣品制備: 真空封管機系統(tǒng) 水焊機(布朗氣焊接機) 靜電紡絲勻膠機流延機 ALD原子層沉積設(shè)備 PLD脈沖激光沉積系統(tǒng) PVD物理氣相沉積設(shè)備 CVTD材料氣相生長輸運與沉積系統(tǒng)

晶體樣品制備: 光學(xué)浮區(qū)爐

粉末樣品制備: 噴霧干燥器

器件樣品制備: 3D打印設(shè)備

樣品處理系統(tǒng): 惰性氣體手套箱系統(tǒng) 亞克力手套箱手套箱蒸鍍一體機有機溶劑凈化系統(tǒng)

測試儀表: 鎖相放大器數(shù)字源表示波器皮安表阻抗分析儀 LCR表

分析表征設(shè)備: 形貌成分表征粒度分析色譜分析儀光譜分析儀表面性能分析

測試設(shè)備: 力學(xué)測試設(shè)備電學(xué)測試設(shè)備電化學(xué)測試設(shè)備熱學(xué)測試設(shè)備光學(xué)測試設(shè)備磁學(xué)測試設(shè)備聲學(xué)測試設(shè)備

實驗室通用輔助設(shè)備: 真空設(shè)備氣源設(shè)備溫控設(shè)備稱量設(shè)備研磨設(shè)備樣品保存設(shè)備清洗系統(tǒng) 電源設(shè)備減震臺配件,、材料和耗材

反應(yīng)設(shè)備

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產(chǎn)品簡介詳細(xì)介紹

該設(shè)備利用背衍射法探測材料的晶體結(jié)構(gòu)，常用于單晶定向,、測定晶體對稱性,、表征晶體的成晶質(zhì)量等

該設(shè)備利用背衍射法探測材料的晶體結(jié)構(gòu)，常用于單晶定向,、測定晶體對稱性,、表征晶體的成晶質(zhì)量等。支持實時成像和累計曝光兩種工作模式,，最長曝光時間達(dá)30分鐘,，最短可至毫秒?？臻g分辨率高,、用戶界面直觀,。

┃ 設(shè)備特點

PSEL軟件定向誤差低至0.05度
多晶硅片二維定向mapping
大批量樣品篩選
超20kg重負(fù)荷樣品定位



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