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日本Hisol等離子清洗機去除有機污染物等

參   考   價: ￥ 16500

訂  貨  量: ≥100 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號G1000

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地深圳市

更新時間：2024-10-12 12:28:35瀏覽次數(shù)：385次

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產(chǎn)地類別 進口 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,能源,電子,電氣,綜合
日本Hisol等離子清洗機去除有機污染物等 G1000

G1000是一種利用 氣體等離子體的蝕刻作用,，
在低壓環(huán)境下對被清洗物體表面進行清洗的系統(tǒng)。通過根據(jù)用途選擇所使用的氣體,，
不僅可以可靠地去除有機污染物,，還可以可靠地去除無機污染物,。

日本Hisol等離子清洗機去除有機污染物等 G1000 特點介紹


G1000是一種利用 氣體等離子體的蝕刻作用,，

在低壓環(huán)境下對被清洗物體表面進行清洗的系統(tǒng),。通過根據(jù)用途選擇所使用的氣體,，

不僅可以可靠地去除有機污染物，還可以可靠地去除無機污染物,。

該系統(tǒng)非常適合通過清潔 HIC 基板和引線框架的接合表面來提高接合強度，并通過表面改性（親水化）提高潤濕性,。


有機材料（抗蝕劑等）的蝕刻

去除污染物和焊劑

清潔引線鍵合表面——提高鍵合強度

提高表面親水性 - 芯片附著/模具預(yù)處理

表面張力控制等


日本Hisol等離子清洗機去除有機污染物等 G1000 規(guī)格參數(shù)


平行板式腔室將等離子體均勻照射到待清潔表面

根據(jù)清潔目標(biāo),，

從 5 種不同強度的等離子體模式中進行選擇，包括無電子等離子體和活性等離子體,。

內(nèi)存中可存儲 12 種清潔條件,，并且

可使用設(shè)備正面的觸摸面板輕松執(zhí)行配方設(shè)置和操作。

與高頻 (13.56MHz) 相比,， 40kHz LF 等離子電源可實現(xiàn)高效等離子照射

（工件上的熱應(yīng)力更?。?/span>

可以選擇任意 3 種氣體，氣體混合和流量可由 CPU 控制,，并可選配質(zhì)量流量控制器,。

有 14 個狹縫，用于放置托盤,。

總共包括 12 個帶孔托盤,，用作電極和工件支架。

托盤有三種類型：活性托盤（+）,、接地托盤（-）和

與腔室絕緣的浮動托盤,，

等離子體在活性托盤和接地托盤之間產(chǎn)生



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