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EI(electronics-inc)流量閥
產(chǎn)品概述
EI Electronics MC MagnaValve是新一代工業(yè)級智能流量控制閥,專為壓力,、高潔凈度及超精密流體場景設(shè)計,。其創(chuàng)新性融合了EI的MagnaCore™多級磁感驅(qū)動系統(tǒng)與嵌入式AI控制芯片,可在0.1-50 bar超寬壓力范圍內(nèi)穩(wěn)定調(diào)節(jié)氣體,、液體及納米級懸浮介質(zhì)的流量,。該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、氫能儲運,、生物醫(yī)藥等高技術(shù)領(lǐng)域,,以納米級精度、全生命周期自診斷及多協(xié)議物聯(lián)能力,重新定義工業(yè)流體控制標準,。
核心技術(shù)特點
多級磁感驅(qū)動架構(gòu)(MagnaCore™)?
采用五層軸向磁路陣列設(shè)計,,驅(qū)動力密度較傳統(tǒng)電磁閥提升3倍,響應(yīng)時間≤5ms,。閥芯采用碳化硅陶瓷與納米鍍層工藝,,耐受氫氟酸、超純水等介質(zhì),,工作溫度范圍擴展至-196℃(深冷)至300℃(高溫),,使用壽命突破5000萬次循環(huán)。
AI動態(tài)校準系統(tǒng)?
集成多模態(tài)傳感器(流量,、壓力,、溫度、振動),,每秒執(zhí)行2000次數(shù)據(jù)采集,,通過內(nèi)置TensorFlow Lite模型實時優(yōu)化控制參數(shù)。支持MQTT/OPC UA協(xié)議,,實現(xiàn)與工業(yè)4.0平臺的毫秒級數(shù)據(jù)同步,,流量控制精度達±0.1% FS。
全封閉潔凈設(shè)計?
閥體采用電化學(xué)拋光316L超低碳不銹鋼,,流道表面粗糙度Ra≤0.1μm,,滿足SEMI F57超純水標準??蛇x配真空級密封(漏率<1×10?? mbar·L/s)與ISO 1級潔凈室裝配工藝,,適配芯片光刻膠、疫苗原液等超敏感介質(zhì)輸送,。
應(yīng)用場景
半導(dǎo)體制造?:極紫外光刻(EUV)設(shè)備冷卻劑流量控制,、晶圓清洗超純水分配。
氫能源系統(tǒng)?:70MPa高壓氫氣管網(wǎng)壓力調(diào)節(jié),、液氫儲罐加注流量管理,。
生物制藥?:mRNA疫苗微流控生產(chǎn)、一次性生物反應(yīng)器培養(yǎng)基精準供給,。
科研裝置?:聚變堆超導(dǎo)磁體液氦循環(huán),、同步輻射光源液態(tài)金屬靶控制。
性能優(yōu)勢
超高壓能力?:50 bar連續(xù)工作壓力,,峰值耐受100 bar沖擊載荷。
納米級潔凈?:通過FDA 21 CFR Part 11電子記錄認證,,顆粒釋放量<5 particles/mL(≥0.5μm),。
自主運維?:數(shù)字孿生系統(tǒng)預(yù)測閥門健康狀態(tài),自動生成維護工單并推送備件清單,。
能效?:動態(tài)功耗<2W(@24VDC),,較同類產(chǎn)品節(jié)能60%,。
技術(shù)參數(shù)
項目參數(shù)值
公稱通徑DN6/DN10/DN15/DN20
工作壓力0.1-50 bar(標準)/ 100 bar(定制)
介質(zhì)兼容性氣體/液體/納米漿料(粘度≤10? cP)
控制信號4-20mA/EtherCAT/Profinet IRT
泄漏等級ANSI/FCI 70-2 Class VI(金屬密封)
認證標準SEMI S2/S8、ASME BPE,、ISO 14644-1
安裝與維護
需采用無應(yīng)力安裝工藝,,配套EI HyperMount™對中夾具確保法蘭平行度≤0.02mm。維護時通過NFC近場通信獲取設(shè)備檔案,,支持熱插拔更換核心模塊(MTTR<15分鐘),。每5年執(zhí)行一次全性能校準,EI全*服務(wù)中心提供原位標定服務(wù),。
認證與質(zhì)保
通過ISO 9001:2015,、CE(2014/34/EU ATEX)、SIL 3(IEC 61508)認證,,質(zhì)保期升級至5年(含AI核心模塊),。所有生產(chǎn)數(shù)據(jù)上鏈存證,用戶可通過EI Blockchain Portal追溯每個零部件的材料批次與測試記錄,。
如需獲取潔凈室安裝指南或參與定制化開發(fā)項目,,請登錄EI Industry 4.0 Hub或聯(lián)系專屬技術(shù)顧問。
EI(electronics-inc)流量閥
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