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[供應(yīng)]OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐
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  • OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐
更新時(shí)間:
2024-12-29 21:00:07
有效期:
2024年12月29日 -- 2025年6月29日
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介:OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐是一款快速蒸發(fā)管式爐,,專門用于PVD或CSS法制作薄膜

詳細(xì)介紹

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介: OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐是一款快速蒸發(fā)管式爐, 專門用于 PVD  CSS  法制作薄膜,; 其爐管外徑為 11″ ,,爐管內(nèi)載樣盤可放置 3″ 的圓形或 2″×2″的方形基片,; OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜( CSS )爐加熱元件為兩組紅外燈管,, 分別安裝在腔體頂端和底部, 升溫速率高達(dá) 20℃/s ,,可迅速使?fàn)t腔內(nèi)溫度升高,; 冷卻速率: >10/s ,可在鍍膜后使樣品快速降溫,; 溫控系統(tǒng)采用 PID30 段程序化控制,, 控溫精度為±1℃, 并且儀器面板上帶有 RS485 接口,, 若儀表內(nèi)配有控溫軟件,, 就可將升 溫程序和曲線導(dǎo)出,。


產(chǎn)品名稱

OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐

產(chǎn)品型號(hào)

OTF-1200X-RTP-II

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下,, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1,、水:設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)


2,、電: AC220V 50Hz20A 空氣開關(guān)),,必須有良好接地


3 、氣: 設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度 99.99%以上 ,,需自備氬氣氣瓶(自帶 ?6mm 雙卡套接


頭)


4,、工作臺(tái):設(shè)備為落地式, 占地面積 1m2 以上


5,、通風(fēng)裝置:需要

主要特點(diǎn)

1,、為了減小熱輻射和達(dá)到快速冷卻的效果,加熱元件被嵌在水冷機(jī)構(gòu)上,。


2 ,、緊貼頂部加熱元件上裝有一氮化鋁基片(?76mm×0.5mm),,使得樣品基片上的溫度更加





均勻,。


3 3″的石墨坩堝可放于底部加熱元件上,用于盛放蒸發(fā)料,。


4 、真空法蘭通過兩個(gè)硅膠 O 型圈進(jìn)行密封,,通過機(jī)械泵其腔內(nèi)真空度可達(dá) 10-2torr ,通過分子 泵真空度可達(dá) 10-5torr,。


5,、兩個(gè)真空法蘭都可以通過手動(dòng)操作進(jìn)行上下移動(dòng),。


6、一個(gè)數(shù)字式真空顯示計(jì)安裝在法蘭頂部,,可以精 確測(cè)量腔內(nèi)真空度,。

技術(shù)參數(shù)

1 、電源: 單相 AC208V-240V (需 20A 的空氣開關(guān))


2,、真空腔體:高純石英管,, 外徑 280mm ,,內(nèi)徑 275mm ,高 229mm


3,、加熱元件: 兩組 IR 紅外燈管,, 額定功率 800W ,,總功率 1600W


4,、熱電偶: S 型熱電偶 2 個(gè),,分別安裝于上下法蘭上


5、工作溫度:兩個(gè)加熱區(qū)域單獨(dú)工作的極限溫度≤650℃,兩加熱區(qū)域極限溫差≤350


6,、加熱速率: >8/s

7、冷卻速率: >10/s600-100℃)


8、真空法蘭: 316 不銹鋼制作,, 配有 1 個(gè) KF-25 接口,、 2 個(gè) 1/4″軟管接頭


9、真空計(jì):數(shù)字式真空顯示計(jì)

可選配件

1 ,、PC 控溫軟件


2,、兩路混氣系統(tǒng)


3、多路浮子混氣系統(tǒng)


4,、多路質(zhì)子混氣系統(tǒng)


5,、真空泵


6、水冷機(jī)


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