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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
產(chǎn)品簡介： SE-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化 Mapping繪制化測量光譜橢偏儀,，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),，配置全自動 Mapping測量模塊，通過橢偏參數(shù),、透射/反射率等參數(shù)的測量,，快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學參數(shù)自定義繪制化測量表征分析。SE-Mapping光譜橢偏儀廣泛應用OLED,，LED,，光伏，集成電路等工業(yè)應用中,實現(xiàn)大尺寸全基片膜厚,、光學常數(shù)以及膜厚分布快速測量與表征,。
| 產(chǎn)品型號 | SE-Mapping 光譜橢偏儀 |
| 主要特點 | 1、全基片橢偏繪制化測量解決方案
2,、支持產(chǎn)品設(shè)計以及功能模塊定制化,，一鍵繪制測量
3、配置 Mapping 模塊,，全基片自定義多點定位測量能力
4,、豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力
5,、采用氘燈和鹵素燈復合光源,，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)
6、高精度旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制,、 PCRSA 配置,， 實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集 7、具備全基片自定義多點自動定位測量能力,，提供全面膜厚檢測分析報告 |
| 1,、自動化程度：固定角+  mapping2、應用定位：檢測型
3,、基本功能： Psi/Delta,、N/C/S、R 等光譜
4,、分析光譜： 380-1000nm(可擴至 193-2500nm)
5,、單次測量時間： 0.5-5s
6、重復性測量精度： 0.01nm
7,、光斑大?。?/span> 大光斑 2-3mm,微光斑200um
8,、入射角調(diào)節(jié)方式：固定角
9、入射角范圍： 65°
10,、找焦方式：手動找焦
11,、Mapping1 程： 300x300mm
12、支持樣件尺寸： 至 300mm | ||
| 可選配件 | 3 | 真空泵 |
| 4 | 透射吸附組件 | |