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單光子雪崩二極管的制造工藝解析

閱讀:882      發(fā)布時間:2024-3-13
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  單光子雪崩二極管(SPAD)的制造工藝涉及將傳統(tǒng)的雪崩光電二極管(APD)技術與先進的半導體加工技術相結合,以實現(xiàn)對單個光子的高靈敏度檢測,。
  以下是單光子雪崩二極管制造過程中的一些關鍵步驟和考慮因素:
  1.材料選擇:SPAD通常使用硅或其他半導體材料制造,,這些材料能夠有效地吸收光子并產生電子-空穴對。
  2.雪崩擊穿:SPAD工作在所謂的蓋革模式,,即反向偏置電壓高于其雪崩擊穿電壓,。在這種模式下,光生電子-空穴對會在高電場中加速并獲得足夠的能量,,以至于它們能夠通過碰撞電離產生更多的載流子,,從而形成雪崩效應。
  3.保護環(huán)結構:為了防止邊緣擊穿和提高器件的穩(wěn)定性,,SPAD的設計中通常會包含一個保護環(huán)結構,。這種結構有助于確保雪崩效應均勻地發(fā)生在器件的有源區(qū)域,而不是在邊緣區(qū)域,。
  4.深N阱和P型植入物:為了提高電場的均勻性和光子收集效率,,一些設計采用了深N阱保護環(huán)結構和輔助的P型植入物。這些結構有助于優(yōu)化電場分布,,從而提高單光子探測效率,。
  5.陣列化:通過結合互補型金屬氧化物半導體(CMOS)技術,SPAD可以制成陣列式成像探測器,。這種陣列化可以提高空間分辨率和信噪比,,使得SPAD在天文學、量子計算等領域得到廣泛應用,。
  6.工藝優(yōu)化:為了提高性能,,降低噪聲(如暗計數(shù)),并提高對低強度光信號的檢測能力,,SPAD的制造工藝需要不斷優(yōu)化,。這包括對影響SPAD性能的主要因素進行詳細研究,并基于現(xiàn)有工藝設計出新的SPAD結構,。
  7.電荷載流子擴散:在制造過程中,,還需要考慮電荷載流子的擴散問題,因為這會影響SPAD的時間抖動,。深層的有效吸收可能會導致電荷載流子擴散距離增加,,從而影響器件的時間響應特性。
 

單光子雪崩二極管

 

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